光学测量布置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201580071630.0

申请日：

2015-12-11

公开(公告)号：

CN107407555A

公开(公告)日：

2017-11-28

发明(设计)人：

P.勒托恩 C.霍母伦德

申请人：

申请人地址：

芬兰坦佩雷

IPC主分类号：

G01B1125

IPC分类号：

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司 72001

代理人：

周学斌;郑冀之

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-12-22	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G01B 11/25 申请日:20151211
2017-11-28	公开	公开
2019-11-12	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G01B 11/25 申请公布日:20171128

共 50 条

[1]

光学测量设备、折射计和用于光学测量的布置 [P].

J·耶斯凯莱伊宁 ;

H·萨罗 ;

V·吕拉 ;

T·劳塔迈基 .

中国专利 :CN109900637A ,2019-06-18

[2]

位移的光学测量 [P].

T·雷 ;

N·J·杰克瑟 ;

N·T·科尔菲斯 ;

C·M·汉纳 ;

M·A·彻维兹 .

中国专利 :CN110425981B ,2019-11-08

[3]

光学测量装置及光学测量方法 [P].

高堉墐 ;

刘朝辉 ;

郑伊凯 ;

王世昌 ;

王大祥 .

中国专利 :CN103792190B ,2014-05-14

[4]

光学测量装置和光学测量方法 [P].

铃木俊平 ;

今西慎吾 ;

桥本学治 ;

堂胁优 .

中国专利 :CN102192872B ,2011-09-21

[5]

光学测量装置 [P].

森野久康 ;

高岛润 ;

的场贤一 ;

早川雅之 ;

藤原直树 ;

丸川真理子 .

中国专利 :CN107063127A ,2017-08-18

[6]

光学测量系统 [P].

西原贞光 ;

河原勇司 .

中国专利 :CN85106386A ,1987-03-18

[7]

光学压力测量 [P].

V.格林纳 .

中国专利 :CN102835965B ,2012-12-26

[8]

光学测量装置 [P].

石塚隼司 .

日本专利 :CN119137466A ,2024-12-13

[9]

光学测量设备 [P].

姜周延 ;

金起德 ;

金洸秀 ;

金郁来 ;

孙在锡 ;

李恩周 ;

黄淳弘 .

韩国专利 :CN119470263A ,2025-02-18

[10]

光学测量设备 [P].

法布瑞斯·卡拉米 .

中国专利 :CN102770737A ,2012-11-07

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