等离子处理装置和等离子处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200510092299.9

申请日：

2005-08-26

公开(公告)号：

CN1761032A

公开(公告)日：

2006-04-19

发明(设计)人：

宫田浩二佐藤徹治

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L2100

IPC分类号：

H01L213065 H01L2120 C23C1650 C23F400 H05H146

代理机构：

中原信达知识产权代理有限责任公司

代理人：

樊卫民;郭国清

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2006-06-07	实质审查的生效	实质审查的生效
2008-11-26	授权	授权
2006-04-19	公开	公开

共 50 条

[1]

等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

小口元树 ;

森崎昭生 ;

花田幸纪 .

中国专利 :CN101853763A ,2010-10-06

[2]

等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

平山昌树 .

中国专利 :CN103503580A ,2014-01-08

[3]

等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

桧森慎司 .

中国专利 :CN101990353A ,2011-03-23

[4]

等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

小野寺直见 ;

乡右近清彦 ;

佐藤润 .

中国专利 :CN101877304B ,2010-11-03

[5]

等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

山泽阳平 ;

奥西直彦 ;

三泽裕文 ;

添田秀史 .

中国专利 :CN101853766A ,2010-10-06

[6]

等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

平山昌树 .

中国专利 :CN104094677A ,2014-10-08

[7]

等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

平山昌树 .

中国专利 :CN104081883A ,2014-10-01

[8]

等离子处理方法和等离子处理装置 [P].

森川泰宏 ;

邹红罡 .

中国专利 :CN101785088B ,2010-07-21

[9]

等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

泽田康志 ;

山崎圭一 ;

井上吉民 ;

岡崎幸子 ;

小驹益弘 .

中国专利 :CN1221967A ,1999-07-07

[10]

等离子掺杂方法和等离子处理装置 [P].

奥村智洋 ;

佐佐木雄一朗 ;

冈下胜己 ;

水野文二 ;

伊藤裕之 ;

中山一郎 ;

金成国 .

中国专利 :CN101151709A ,2008-03-26

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