等离子处理装置和等离子处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201010132226.9

申请日：

2010-03-16

公开(公告)号：

CN101853763A

公开(公告)日：

2010-10-06

发明(设计)人：

小口元树森崎昭生花田幸纪

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01J3732

IPC分类号：

H01J3702

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇;张会华

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-11-24	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101017287986 IPC(主分类):H01J 37/32 专利申请号:2010101322269 申请日:20100316
2014-07-09	授权	授权
2010-10-06	公开	公开

共 50 条

[1]

等离子处理装置 [P].

弘中嘉之 ;

市川贵大 ;

前野敏郎 .

日本专利 :CN121003007A ,2025-11-21

[2]

等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

桧森慎司 .

中国专利 :CN101990353A ,2011-03-23

[3]

等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

小野寺直见 ;

乡右近清彦 ;

佐藤润 .

中国专利 :CN101877304B ,2010-11-03

[4]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

弘中嘉之 .

中国专利 :CN110648889B ,2020-01-03

[5]

等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

山泽阳平 ;

奥西直彦 ;

三泽裕文 ;

添田秀史 .

中国专利 :CN101853766A ,2010-10-06

[6]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

市川贵大 ;

弘中嘉之 ;

大越康雄 .

日本专利 :CN115004864B ,2025-10-14

[7]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

江崎隆 ;

广田侯然 ;

池永和幸 ;

角屋诚浩 .

日本专利 :CN119895545A ,2025-04-25

[8]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

市川贵大 ;

弘中嘉之 ;

大越康雄 .

中国专利 :CN115004864A ,2022-09-02

[9]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

德永贵之 ;

上村光弘 ;

森本未知数 .

中国专利 :CN114467169A ,2022-05-10

[10]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

中谷信太郎 ;

堀川恭兵 ;

佐藤浩平 .

中国专利 :CN112655069A ,2021-04-13

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