等离子处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202480012532.9

申请日：

2024-03-21

公开(公告)号：

CN121003007A

公开(公告)日：

2025-11-21

发明(设计)人：

弘中嘉之市川贵大前野敏郎

申请人：

株式会社日立高新技术株式会社野田射频技术

申请人地址：

日本

IPC主分类号：

H05H1/46

IPC分类号：

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

吴秋明

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-12-09	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):H05H 1/46申请日:20240321
2025-11-21	公开	公开

共 50 条

[1]

等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

小口元树 ;

森崎昭生 ;

花田幸纪 .

中国专利 :CN101853763A ,2010-10-06

[2]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

弘中嘉之 .

中国专利 :CN110648889B ,2020-01-03

[3]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

中谷信太郎 ;

堀川恭兵 ;

佐藤浩平 .

中国专利 :CN112655069A ,2021-04-13

[4]

等离子处理装置 [P].

岩濑拓 ;

小藤直行 ;

园田靖 ;

中谷侑亮 ;

田中基裕 .

中国专利 :CN114788418A ,2022-07-22

[5]

等离子处理装置 [P].

卢克·约瑟夫·辛贝勒 ;

园田靖 ;

植村崇 ;

市丸朋祥 ;

佐佐木惇也 .

中国专利 :CN109935512A ,2019-06-25

[6]

等离子处理装置 [P].

许振斌 ;

田村仁 .

中国专利 :CN115119543A ,2022-09-27

[7]

等离子处理装置 [P].

许振斌 ;

田村仁 .

日本专利 :CN115119543B ,2025-10-14

[8]

等离子处理装置 [P].

近藤勇树 ;

横川贤悦 ;

森政士 ;

宇根聪 ;

中本和则 .

中国专利 :CN110770880A ,2020-02-07

[9]

高频电力电路、等离子处理装置、及等离子处理方法 [P].

土居谦太 ;

中村敏幸 .

中国专利 :CN114303227A ,2022-04-08

[10]

等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

桧森慎司 .

中国专利 :CN101990353A ,2011-03-23

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