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高频电力电路、等离子处理装置、及等离子处理方法
被引:0
申请号
:
CN202180005049.4
申请日
:
2021-08-24
公开(公告)号
:
CN114303227A
公开(公告)日
:
2022-04-08
发明(设计)人
:
土居谦太
中村敏幸
申请人
:
申请人地址
:
日本国神奈川县茅崎市萩园2500番地
IPC主分类号
:
H01J3732
IPC分类号
:
代理机构
:
上海和跃知识产权代理事务所(普通合伙) 31239
代理人
:
洪磊
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-04-08
公开
公开
共 50 条
[1]
等离子处理装置和等离子处理方法
[P].
小口元树
论文数:
0
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小口元树
;
森崎昭生
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森崎昭生
;
花田幸纪
论文数:
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花田幸纪
.
中国专利
:CN101853763A
,2010-10-06
[2]
等离子处理装置
[P].
弘中嘉之
论文数:
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
弘中嘉之
;
市川贵大
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
市川贵大
;
前野敏郎
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0
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
前野敏郎
.
日本专利
:CN121003007A
,2025-11-21
[3]
等离子处理装置及等离子处理方法
[P].
黄太亨
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黄太亨
;
张鸿永
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张鸿永
.
中国专利
:CN101267708A
,2008-09-17
[4]
等离子处理装置及等离子处理方法
[P].
岩井哲博
论文数:
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岩井哲博
.
中国专利
:CN103140922A
,2013-06-05
[5]
等离子处理方法及等离子处理装置
[P].
大见忠弘
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大见忠弘
;
寺本章伸
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寺本章伸
.
中国专利
:CN101273671A
,2008-09-24
[6]
等离子处理装置和等离子处理方法
[P].
桧森慎司
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桧森慎司
.
中国专利
:CN101990353A
,2011-03-23
[7]
等离子处理装置和等离子处理方法
[P].
小野寺直见
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小野寺直见
;
乡右近清彦
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乡右近清彦
;
佐藤润
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佐藤润
.
中国专利
:CN101877304B
,2010-11-03
[8]
等离子处理方法以及等离子处理装置
[P].
田中庆一
论文数:
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田中庆一
.
中国专利
:CN110277296A
,2019-09-24
[9]
等离子处理装置以及等离子处理方法
[P].
江崎隆
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
江崎隆
;
广田侯然
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
广田侯然
;
池永和幸
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
池永和幸
;
角屋诚浩
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
角屋诚浩
.
日本专利
:CN119895545A
,2025-04-25
[10]
等离子处理装置以及等离子处理方法
[P].
德永贵之
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德永贵之
;
上村光弘
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上村光弘
;
森本未知数
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森本未知数
.
中国专利
:CN114467169A
,2022-05-10
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