等离子处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201880004600.1

申请日：

2018-05-28

公开(公告)号：

CN110770880A

公开(公告)日：

2020-02-07

发明(设计)人：

近藤勇树横川贤悦森政士宇根聪中本和则

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L213065

IPC分类号：

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

柯瑞京

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-02-07	公开	公开
2020-03-03	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/3065 申请日:20180528

共 50 条

[1]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

弘中嘉之 .

中国专利 :CN110648889B ,2020-01-03

[2]

等离子处理装置 [P].

岩濑拓 ;

小藤直行 ;

园田靖 ;

中谷侑亮 ;

田中基裕 .

中国专利 :CN114788418A ,2022-07-22

[3]

等离子处理装置 [P].

弘中嘉之 ;

市川贵大 ;

前野敏郎 .

日本专利 :CN121003007A ,2025-11-21

[4]

等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

小口元树 ;

森崎昭生 ;

花田幸纪 .

中国专利 :CN101853763A ,2010-10-06

[5]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

田村仁 ;

森裕晖 ;

礒本真维 .

日本专利 :CN119366267A ,2025-01-24

[6]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

中谷信太郎 ;

堀川恭兵 ;

佐藤浩平 .

中国专利 :CN112655069A ,2021-04-13

[7]

等离子处理装置 [P].

一野贵雅 ;

佐藤浩平 ;

中本和则 .

中国专利 :CN111801786A ,2020-10-20

[8]

等离子处理装置 [P].

梶房裕之 ;

横川贤悦 ;

荒濑高男 ;

森政士 .

中国专利 :CN113348732A ,2021-09-03

[9]

等离子处理装置 [P].

卢克·约瑟夫·辛贝勒 ;

园田靖 ;

植村崇 ;

市丸朋祥 ;

佐佐木惇也 .

中国专利 :CN109935512A ,2019-06-25

[10]

等离子处理装置 [P].

许振斌 ;

田村仁 .

中国专利 :CN115119543A ,2022-09-27

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