等离子处理装置和等离子处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN98122788.0

申请日：

1998-12-03

公开(公告)号：

CN1221967A

公开(公告)日：

1999-07-07

发明(设计)人：

泽田康志山崎圭一井上吉民岡崎幸子小驹益弘

申请人：

申请人地址：

日本大阪府

IPC主分类号：

H01J3732

IPC分类号：

H01L21302 C23C1650 C23C1432 H05H124

代理机构：

上海专利商标事务所

代理人：

孙敬国

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2003-09-17	授权	授权
1999-07-07	公开	公开
2012-02-15	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101182509883 IPC(主分类):H05H 1/28 专利号:ZL981227880 申请日:19981203 授权公告日:20030917 终止日期:20101203
1999-06-09	实质审查请求的生效	实质审查请求的生效

共 50 条

[1]

等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

小口元树 ;

森崎昭生 ;

花田幸纪 .

中国专利 :CN101853763A ,2010-10-06

[2]

等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

平山昌树 .

中国专利 :CN103503580A ,2014-01-08

[3]

等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

桧森慎司 .

中国专利 :CN101990353A ,2011-03-23

[4]

等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

小野寺直见 ;

乡右近清彦 ;

佐藤润 .

中国专利 :CN101877304B ,2010-11-03

[5]

等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

宫田浩二 ;

佐藤徹治 .

中国专利 :CN1761032A ,2006-04-19

[6]

等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

山泽阳平 ;

奥西直彦 ;

三泽裕文 ;

添田秀史 .

中国专利 :CN101853766A ,2010-10-06

[7]

等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

平山昌树 .

中国专利 :CN104094677A ,2014-10-08

[8]

等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

平山昌树 .

中国专利 :CN104081883A ,2014-10-01

[9]

等离子处理方法和等离子处理装置 [P].

森川泰宏 ;

邹红罡 .

中国专利 :CN101785088B ,2010-07-21

[10]

等离子处理方法以及等离子处理装置 [P].

寺仓聪志 ;

森政士 ;

荒濑高男 ;

岩濑拓 .

中国专利 :CN107438892B ,2017-12-05

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