等离子处理方法以及等离子处理装置

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专利类型
发明
申请号
CN201780000763.8
申请日
2017-01-31
公开(公告)号
CN107438892B
公开(公告)日
2017-12-05
发明(设计)人
寺仓聪志 森政士 荒濑高男 岩濑拓
申请人
申请人地址
日本东京都
IPC主分类号
H01L213065
IPC分类号
H05H146
代理机构
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人
柯瑞京
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
等离子处理方法以及等离子处理装置 [P]. 
寺仓聪志 ;
森政士 ;
荒濑高男 ;
岩濑拓 .
中国专利 :CN111627807A ,2020-09-04
[2]
等离子处理方法以及等离子处理装置 [P]. 
松井都 ;
桑原谦一 ;
臼井建人 ;
小林浩之 .
中国专利 :CN111801775A ,2020-10-20
[3]
等离子处理装置以及等离子处理方法 [P]. 
冈本翔 ;
臼井建人 ;
松井都 ;
中元茂 ;
川本尚裕 ;
关口笃史 .
中国专利 :CN114080662A ,2022-02-22
[4]
等离子处理装置以及等离子处理方法 [P]. 
江崎隆 ;
广田侯然 ;
池永和幸 ;
角屋诚浩 .
日本专利 :CN119895545A ,2025-04-25
[5]
等离子处理方法以及等离子处理装置 [P]. 
松井都 ;
桑原谦一 ;
臼井建人 ;
小林浩之 .
日本专利 :CN111801775B ,2024-03-22
[6]
等离子处理装置以及等离子处理方法 [P]. 
冈本翔 ;
臼井建人 ;
松井都 ;
中元茂 ;
川本尚裕 ;
关口笃史 .
日本专利 :CN114080662B ,2025-11-14
[7]
等离子处理装置以及等离子处理方法 [P]. 
徐浩 ;
内田丈滋 ;
中元茂 ;
福地功祐 ;
井上智己 .
中国专利 :CN110752136A ,2020-02-04
[8]
等离子处理装置以及等离子处理方法 [P]. 
市川贵大 ;
弘中嘉之 ;
大越康雄 .
日本专利 :CN115004864B ,2025-10-14
[9]
等离子处理装置以及等离子处理方法 [P]. 
玉利南菜子 ;
广田侯然 ;
角屋诚浩 ;
长谷征洋 .
中国专利 :CN113498546A ,2021-10-12
[10]
等离子处理装置以及等离子处理方法 [P]. 
置田尚吾 ;
针贝笃史 ;
松原功幸 .
中国专利 :CN106024566A ,2016-10-12