等离子处理方法以及等离子处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201980005139.6

申请日：

2019-12-17

公开(公告)号：

CN111801775B

公开(公告)日：

2024-03-22

发明(设计)人：

松井都桑原谦一臼井建人小林浩之

申请人：

株式会社日立高新技术

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L21/3065

IPC分类号：

H01L21/31

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

韩丁

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-03-22	授权	授权

共 50 条

[1]

等离子处理方法以及等离子处理装置 [P].

松井都 ;

桑原谦一 ;

臼井建人 ;

小林浩之 .

中国专利 :CN111801775A ,2020-10-20

[2]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

冈本翔 ;

臼井建人 ;

松井都 ;

中元茂 ;

川本尚裕 ;

关口笃史 .

中国专利 :CN114080662A ,2022-02-22

[3]

等离子处理方法以及等离子处理装置 [P].

寺仓聪志 ;

森政士 ;

荒濑高男 ;

岩濑拓 .

中国专利 :CN107438892B ,2017-12-05

[4]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

江崎隆 ;

广田侯然 ;

池永和幸 ;

角屋诚浩 .

日本专利 :CN119895545A ,2025-04-25

[5]

等离子处理方法以及等离子处理装置 [P].

寺仓聪志 ;

森政士 ;

荒濑高男 ;

岩濑拓 .

中国专利 :CN111627807A ,2020-09-04

[6]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

冈本翔 ;

臼井建人 ;

松井都 ;

中元茂 ;

川本尚裕 ;

关口笃史 .

日本专利 :CN114080662B ,2025-11-14

[7]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

徐浩 ;

内田丈滋 ;

中元茂 ;

福地功祐 ;

井上智己 .

中国专利 :CN110752136A ,2020-02-04

[8]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

市川贵大 ;

弘中嘉之 ;

大越康雄 .

日本专利 :CN115004864B ,2025-10-14

[9]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

玉利南菜子 ;

广田侯然 ;

角屋诚浩 ;

长谷征洋 .

中国专利 :CN113498546A ,2021-10-12

[10]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

置田尚吾 ;

针贝笃史 ;

松原功幸 .

中国专利 :CN106024566A ,2016-10-12

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