一种光刻机的监测系统及光刻机的监测方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200710041956.6

申请日：

2007-06-13

公开(公告)号：

CN101324758A

公开(公告)日：

2008-12-17

发明(设计)人：

白兰萍敖松泉

申请人：

申请人地址：

201203上海市浦东新区张江路18号

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

H01L21027

代理机构：

上海智信专利代理有限公司

代理人：

王洁

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2008-12-17	公开	公开
2011-02-02	授权	授权
2009-02-11	实质审查的生效	实质审查的生效
2019-05-31	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20070613 授权公告日:20110202 终止日期:20180613

共 50 条

[1]

光刻机气压控制及监测系统、方法和光刻机 [P].

王魁波 ;

吴晓斌 ;

罗艳 ;

谢婉露 ;

沙鹏飞 ;

李慧 ;

韩晓泉 .

中国专利 :CN114280894A ,2022-04-05

[2]

光刻机产能监测系统 [P].

张杰 ;

刘惠然 ;

梁非 ;

龚毅 .

中国专利 :CN103293878B ,2013-09-11

[3]

监测光刻机焦距的方法 [P].

周侃 ;

赵弘文 .

中国专利 :CN119247693B ,2025-10-31

[4]

监测光刻机焦距的方法 [P].

周侃 ;

赵弘文 .

中国专利 :CN119247693A ,2025-01-03

[5]

光刻机照明系统及光刻机 [P].

金成昱 ;

金帅炯 ;

梁贤石 ;

丁明正 ;

贺晓彬 ;

刘强 ;

刘金彪 ;

白国斌 .

中国专利 :CN114675494A ,2022-06-28

[6]

光刻方法及光刻机 [P].

李海峰 ;

赵志豪 ;

沈俊明 ;

古哲安 ;

吴建宏 .

中国专利 :CN120949523B ,2025-12-16

[7]

光刻方法及光刻机 [P].

李海峰 ;

赵志豪 ;

沈俊明 ;

古哲安 ;

吴建宏 .

中国专利 :CN120949523A ,2025-11-14

[8]

光刻机及光刻机的压板装置 [P].

胡刚 ;

陈东 ;

项宗齐 .

中国专利 :CN214375824U ,2021-10-08

[9]

一种光刻机框架及光刻机 [P].

张瑞平 ;

杨玉杰 .

中国专利 :CN209149068U ,2019-07-23

[10]

一种光刻机框架及光刻机 [P].

张瑞平 ;

杨玉杰 .

中国专利 :CN111381450B ,2025-06-17

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