光刻机产能监测系统

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201310213481.X
申请日
2013-05-31
公开(公告)号
CN103293878B
公开(公告)日
2013-09-11
发明(设计)人
张杰 刘惠然 梁非 龚毅
申请人
申请人地址
201210 上海市浦东新区张江高斯路497号
IPC主分类号
G03F720
IPC分类号
代理机构
上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275
代理人
吴世华;林彦之
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
光刻机气压控制及监测系统、方法和光刻机 [P]. 
王魁波 ;
吴晓斌 ;
罗艳 ;
谢婉露 ;
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韩晓泉 .
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[2]
一种光刻机的监测系统及光刻机的监测方法 [P]. 
白兰萍 ;
敖松泉 .
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[3]
光刻机照明系统及光刻机 [P]. 
金成昱 ;
金帅炯 ;
梁贤石 ;
丁明正 ;
贺晓彬 ;
刘强 ;
刘金彪 ;
白国斌 .
中国专利 :CN114675494A ,2022-06-28
[4]
一种光刻机光源漏光监测系统 [P]. 
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中国专利 :CN207281466U ,2018-04-27
[5]
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韩雍 ;
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高姝怿 .
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[6]
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[7]
光刻机 [P]. 
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徐程 .
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[8]
光刻机 [P]. 
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刘振辉 ;
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[9]
光刻机 [P]. 
张宾 .
中国专利 :CN218350710U ,2023-01-20
[10]
光刻机 [P]. 
袁伟 .
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