一种光刻机光源漏光监测系统

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201721061142.4

申请日：

2017-08-23

公开(公告)号：

CN207281466U

公开(公告)日：

2018-04-27

发明(设计)人：

牟宏惺

申请人：

申请人地址：

610029 四川省成都市双流县西南航空港经济开发区物联网产业园内

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

成都华风专利事务所(普通合伙) 51223

代理人：

徐丰;张巨箭

法律状态：

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国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-04-27	授权	授权

共 50 条

[1]

一种光源能量强度监测系统及光刻机 [P].

徐占辉 ;

张晓辉 ;

刘景华 ;

肖自雄 ;

区俊杰 ;

尹建刚 ;

高云峰 .

中国专利 :CN210626877U ,2020-05-26

[2]

一种光刻机光源 [P].

孙者利 ;

张运 .

中国专利 :CN205210510U ,2016-05-04

[3]

监测光刻机漏光情况的方法 [P].

黄亦能 ;

吴隆武 ;

吴婷 .

中国专利 :CN112034690B ,2020-12-04

[4]

一种光刻机的监测系统及光刻机的监测方法 [P].

白兰萍 ;

敖松泉 .

中国专利 :CN101324758A ,2008-12-17

[5]

光刻机光源装置 [P].

敬立成 ;

戴滔 ;

张斌 .

中国专利 :CN208399889U ,2019-01-18

[6]

光刻机产能监测系统 [P].

张杰 ;

刘惠然 ;

梁非 ;

龚毅 .

中国专利 :CN103293878B ,2013-09-11

[7]

一种光刻机光源装置 [P].

唐阳明 .

中国专利 :CN210954608U ,2020-07-07

[8]

光刻机漏光检测方法及系统 [P].

钱志浩 .

中国专利 :CN102402122B ,2012-04-04

[9]

光刻机气压控制及监测系统、方法和光刻机 [P].

王魁波 ;

吴晓斌 ;

罗艳 ;

谢婉露 ;

沙鹏飞 ;

李慧 ;

韩晓泉 .

中国专利 :CN114280894A ,2022-04-05

[10]

LED光源和光刻机 [P].

钱俊 .

中国专利 :CN207096678U ,2018-03-13

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