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光刻机外围设备集成监测系统及监测方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202110566978.4
申请日
:
2021-05-24
公开(公告)号
:
CN113406864A
公开(公告)日
:
2021-09-17
发明(设计)人
:
杨青
韩雍
谢华
陈欣健
高姝怿
申请人
:
申请人地址
:
200331 上海市普陀区真陈路200号
IPC主分类号
:
G03F720
IPC分类号
:
G01D2102
代理机构
:
上海湾谷知识产权代理事务所(普通合伙) 31289
代理人
:
肖进
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-09-17
公开
公开
2021-10-08
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20210524
共 50 条
[1]
一种光刻机的监测系统及光刻机的监测方法
[P].
白兰萍
论文数:
0
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0
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0
白兰萍
;
敖松泉
论文数:
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敖松泉
.
中国专利
:CN101324758A
,2008-12-17
[2]
光刻机气压控制及监测系统、方法和光刻机
[P].
王魁波
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王魁波
;
吴晓斌
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吴晓斌
;
罗艳
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罗艳
;
谢婉露
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谢婉露
;
沙鹏飞
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沙鹏飞
;
李慧
论文数:
0
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李慧
;
韩晓泉
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0
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韩晓泉
.
中国专利
:CN114280894A
,2022-04-05
[3]
光刻机产能监测系统
[P].
张杰
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张杰
;
刘惠然
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0
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刘惠然
;
梁非
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0
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梁非
;
龚毅
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0
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龚毅
.
中国专利
:CN103293878B
,2013-09-11
[4]
外围设备的功耗监测
[P].
林德岳
论文数:
0
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机构:
惠普发展公司,有限责任合伙企业
惠普发展公司,有限责任合伙企业
林德岳
;
庄皓丞
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0
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机构:
惠普发展公司,有限责任合伙企业
惠普发展公司,有限责任合伙企业
庄皓丞
;
钱建中
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机构:
惠普发展公司,有限责任合伙企业
惠普发展公司,有限责任合伙企业
钱建中
.
美国专利
:CN112074745B
,2024-05-10
[5]
外围设备的功耗监测
[P].
林德岳
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0
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林德岳
;
庄皓丞
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0
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庄皓丞
;
钱建中
论文数:
0
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0
钱建中
.
中国专利
:CN112074745A
,2020-12-11
[6]
监测光刻机焦距的方法
[P].
周侃
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机构:
上海华力集成电路制造有限公司
上海华力集成电路制造有限公司
周侃
;
赵弘文
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0
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机构:
上海华力集成电路制造有限公司
上海华力集成电路制造有限公司
赵弘文
.
中国专利
:CN119247693B
,2025-10-31
[7]
监测光刻机焦距的方法
[P].
周侃
论文数:
0
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0
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0
机构:
上海华力集成电路制造有限公司
上海华力集成电路制造有限公司
周侃
;
赵弘文
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机构:
上海华力集成电路制造有限公司
上海华力集成电路制造有限公司
赵弘文
.
中国专利
:CN119247693A
,2025-01-03
[8]
一种光刻机真空设备故障监测方法及系统
[P].
孙佳鑫
论文数:
0
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0
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机构:
浙江芯晟半导体科技有限责任公司
浙江芯晟半导体科技有限责任公司
孙佳鑫
;
张亮
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机构:
浙江芯晟半导体科技有限责任公司
浙江芯晟半导体科技有限责任公司
张亮
;
孙涛
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机构:
浙江芯晟半导体科技有限责任公司
浙江芯晟半导体科技有限责任公司
孙涛
.
中国专利
:CN119247700A
,2025-01-03
[9]
外围设备运行方法、外围设备及主机
[P].
李吉林
论文数:
0
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0
李吉林
;
吴古政
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吴古政
;
魏东
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魏东
.
中国专利
:CN101046783A
,2007-10-03
[10]
外围设备运行方法、外围设备及主机
[P].
李吉林
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0
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0
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0
李吉林
;
吴古政
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0
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吴古政
;
魏东
论文数:
0
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0
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0
魏东
.
中国专利
:CN101051279B
,2007-10-10
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