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一种光刻机真空设备故障监测方法及系统

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202411143780.5
申请日：
2024-08-20
公开(公告)号：
CN119247700A
公开(公告)日：
2025-01-03
发明(设计)人：
孙佳鑫 张亮 孙涛
申请人：
浙江芯晟半导体科技有限责任公司
申请人地址：
314006 浙江省嘉兴市南湖区大桥镇凌公塘路3556号南湖海创园10号楼306室
IPC主分类号：
G03F7/20
IPC分类号：
G01L21/00
代理机构：
杭州华鼎知识产权代理事务所(普通合伙) 33217
代理人：
沈俭因
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-01-21 实质审查的生效 实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/20申请日:20240820
2025-01-03 公开 公开
共 50 条
[1]
光刻机气压控制及监测系统、方法和光刻机 [P]. 
王魁波 ;
吴晓斌 ;
罗艳 ;
谢婉露 ;
沙鹏飞 ;
李慧 ;
韩晓泉 .
中国专利 :CN114280894A ,2022-04-05
[2]
一种光刻机的监测系统及光刻机的监测方法 [P]. 
白兰萍 ;
敖松泉 .
中国专利 :CN101324758A ,2008-12-17
[3]
光刻机突发故障处理方法及光刻机系统 [P]. 
张琪 ;
符友银 ;
邓丽君 ;
姚孝珍 .
中国专利 :CN120610449A ,2025-09-09
[4]
光刻机突发故障处理方法及光刻机系统 [P]. 
张琪 ;
符友银 ;
邓丽君 ;
姚孝珍 .
中国专利 :CN120610449B ,2025-10-17
[5]
光刻机外围设备集成监测系统及监测方法 [P]. 
杨青 ;
韩雍 ;
谢华 ;
陈欣健 ;
高姝怿 .
中国专利 :CN113406864A ,2021-09-17
[6]
光刻机产能监测系统 [P]. 
张杰 ;
刘惠然 ;
梁非 ;
龚毅 .
中国专利 :CN103293878B ,2013-09-11
[7]
光刻机及光刻机污染控制方法 [P]. 
王魁波 ;
吴晓斌 ;
罗艳 ;
谢婉露 .
中国专利 :CN119781255A ,2025-04-08
[8]
一种光刻机系统及光刻方法 [P]. 
侯国辉 ;
侯国利 ;
刘友兰 ;
侯利艳 .
中国专利 :CN114114856B ,2025-08-22
[9]
光刻机照明系统及光刻机 [P]. 
金成昱 ;
金帅炯 ;
梁贤石 ;
丁明正 ;
贺晓彬 ;
刘强 ;
刘金彪 ;
白国斌 .
中国专利 :CN114675494A ,2022-06-28
[10]
一种光刻机系统及光刻方法 [P]. 
侯国辉 ;
侯国利 ;
刘友兰 ;
侯利艳 .
中国专利 :CN114114856A ,2022-03-01
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