镀膜机(原子层沉积)

被引:0
申请号
CN202230522767.6
申请日
2022-08-11
公开(公告)号
CN307706754S
公开(公告)日
2022-12-02
发明(设计)人
不公告设计人
申请人
申请人地址
518000 广东省深圳市宝安区新安街道兴东社区群辉路1号优创空间1号楼102
IPC主分类号
1599
IPC分类号
代理机构
深圳市瑞方达知识产权事务所(普通合伙) 44314
代理人
焦绅桀
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
原子层沉积镀膜机 [P]. 
陈文翰 ;
乌磊 ;
李哲峰 .
中国专利 :CN307203918S ,2022-03-25
[2]
原子层沉积镀膜机 [P]. 
陈文翰 ;
乌磊 ;
李哲峰 .
中国专利 :CN307136243S ,2022-03-01
[3]
原子层沉积镀膜机 [P]. 
陈文翰 ;
乌磊 ;
李哲峰 .
中国专利 :CN307136242S ,2022-03-01
[4]
一种原子层沉积镀膜机的真空控制系统 [P]. 
柳存定 ;
黎明 ;
杨伟 .
中国专利 :CN112430805B ,2021-03-02
[5]
原子层沉积镀膜方法 [P]. 
陈桉苡 ;
刘安徽 ;
黄俊凯 ;
叶昌鑫 ;
郑博鸿 .
中国专利 :CN118685760A ,2024-09-24
[6]
原子层沉积镀膜系统 [P]. 
陈桉苡 ;
刘安徽 ;
黄俊凯 ;
叶昌鑫 ;
沈纬徵 ;
郑博鸿 .
中国专利 :CN118835217A ,2024-10-25
[7]
原子层沉积镀膜设备 [P]. 
陈文翰 ;
李哲峰 .
中国专利 :CN216404533U ,2022-04-29
[8]
原子层沉积镀膜设备 [P]. 
陈文翰 ;
乌磊 ;
李哲峰 .
中国专利 :CN216404534U ,2022-04-29
[9]
原子层沉积镀膜设备 [P]. 
莫姗 ;
秦志勇 ;
杨启忠 .
中国专利 :CN223373223U ,2025-09-23
[10]
原子层沉积机(PEALD) [P]. 
祁文杰 ;
卢秋霞 ;
刘群 .
中国专利 :CN308823371S ,2024-09-06