原子层沉积镀膜系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202410513383.6

申请日：

2024-04-26

公开(公告)号：

CN118835217A

公开(公告)日：

2024-10-25

发明(设计)人：

陈桉苡刘安徽黄俊凯叶昌鑫沈纬徵郑博鸿

申请人：

安徽越好电子装备有限公司

申请人地址：

239050 安徽省滁州市南谯区乌衣镇双迎路790号3栋

IPC主分类号：

C23C16/455

IPC分类号：

代理机构：

杭州合信专利代理事务所(普通合伙) 33337

代理人：

沈自军

法律状态：

公开

国省代码：

安徽省滁州市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-10-25	公开	公开
2024-11-12	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C23C 16/455申请日:20240426

共 50 条

[1]

原子层沉积镀膜方法 [P].

陈桉苡 ;

刘安徽 ;

黄俊凯 ;

叶昌鑫 ;

郑博鸿 .

中国专利 :CN118685760A ,2024-09-24

[2]

原子层沉积镀膜设备 [P].

陈文翰 ;

李哲峰 .

中国专利 :CN216404533U ,2022-04-29

[3]

原子层沉积镀膜设备 [P].

陈文翰 ;

乌磊 ;

李哲峰 .

中国专利 :CN216404534U ,2022-04-29

[4]

原子层沉积镀膜设备 [P].

莫姗 ;

秦志勇 ;

杨启忠 .

中国专利 :CN223373223U ,2025-09-23

[5]

镀膜机（原子层沉积） [P].

不公告设计人 .

中国专利 :CN307706754S ,2022-12-02

[6]

原子层沉积镀膜机 [P].

陈文翰 ;

乌磊 ;

李哲峰 .

中国专利 :CN307203918S ,2022-03-25

[7]

原子层沉积镀膜机 [P].

陈文翰 ;

乌磊 ;

李哲峰 .

中国专利 :CN307136242S ,2022-03-01

[8]

原子层沉积镀膜机 [P].

陈文翰 ;

乌磊 ;

李哲峰 .

中国专利 :CN307136243S ,2022-03-01

[9]

原子层沉积方法以及原子层沉积系统 [P].

邵大立 ;

史皓然 ;

齐彪 ;

李宇晗 ;

陆淋康 ;

刘子婵 ;

马敬忠 .

中国专利 :CN117265510B ,2024-02-27

[10]

原子层沉积装置及原子层沉积系统 [P].

曹生贤 .

中国专利 :CN106030848B ,2016-10-12

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