原子层沉积装置及原子层沉积系统

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专利类型
发明
申请号
CN201580010609.X
申请日
2015-02-27
公开(公告)号
CN106030848B
公开(公告)日
2016-10-12
发明(设计)人
曹生贤
申请人
申请人地址
韩国大田广域市
IPC主分类号
H01L5156
IPC分类号
H01L21205
代理机构
北京鼎承知识产权代理有限公司 11551
代理人
李伟波;管莹
法律状态
专利申请权、专利权的转移
国省代码
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共 50 条
[1]
原子层沉积装置及原子层沉积方法 [P]. 
刘良文 ;
闫晓晖 ;
拉海忠 .
中国专利 :CN119800330A ,2025-04-11
[2]
原子层沉积方法及原子层沉积装置 [P]. 
叶长福 ;
魏鼎 ;
吕佐文 .
中国专利 :CN117265508B ,2025-09-26
[3]
原子层沉积装置及原子层沉积方法 [P]. 
李名言 ;
吴孝哲 ;
蔡文立 .
中国专利 :CN101333648A ,2008-12-31
[4]
原子层沉积装置及原子层沉积方法 [P]. 
郭世根 ;
项金娟 ;
刘青 .
中国专利 :CN114351116B ,2024-12-31
[5]
原子层沉积装置及原子层沉积方法 [P]. 
郭世根 ;
项金娟 ;
刘青 .
中国专利 :CN114351116A ,2022-04-15
[6]
原子层沉积方法以及原子层沉积系统 [P]. 
邵大立 ;
史皓然 ;
齐彪 ;
李宇晗 ;
陆淋康 ;
刘子婵 ;
马敬忠 .
中国专利 :CN117265510B ,2024-02-27
[7]
原子层沉积设备及原子层沉积喷淋装置 [P]. 
邵大立 ;
齐彪 ;
马敬忠 .
中国专利 :CN115404463A ,2022-11-29
[8]
原子层沉积装置 [P]. 
李丙科 ;
陈庆敏 .
中国专利 :CN209128536U ,2019-07-19
[9]
原子层沉积装置 [P]. 
D·H·李维 .
中国专利 :CN101415862A ,2009-04-22
[10]
原子层沉积装置 [P]. 
李丙科 ;
陈庆敏 .
中国专利 :CN109023306A ,2018-12-18