基板处理装置、基板支承件、半导体装置的制造方法及程序

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专利类型
发明
申请号
CN201980099061.9
申请日
2019-08-06
公开(公告)号
CN114207801A
公开(公告)日
2022-03-18
发明(设计)人
冈岛优作
申请人
申请人地址
日本东京都
IPC主分类号
H01L21683
IPC分类号
H01L2131
代理机构
北京银龙知识产权代理有限公司 11243
代理人
范胜杰;姚海
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
基板处理装置、基板支承件、基板处理方法、半导体器件的制造方法及程序 [P]. 
小川有人 .
日本专利 :CN119654441A ,2025-03-18
[2]
基板处理装置、半导体装置的制造方法及程序 [P]. 
菊池俊之 .
日本专利 :CN120530479A ,2025-08-22
[3]
基板处理装置、半导体装置的制造方法及程序 [P]. 
板谷秀治 .
日本专利 :CN119895547A ,2025-04-25
[4]
基板处理方法、半导体装置的制造方法、基板处理装置及程序 [P]. 
森谷敦 ;
窟田英树 ;
高桥正纮 .
日本专利 :CN119631163A ,2025-03-14
[5]
基板处理方法、半导体装置的制造方法、程序及基板处理装置 [P]. 
长桥知也 ;
陶山渚 ;
江端慎也 ;
野原慎吾 .
日本专利 :CN118414692A ,2024-07-30
[6]
基板处理方法、半导体装置的制造方法、程序及基板处理装置 [P]. 
坪田康寿 ;
岸本宗树 .
日本专利 :CN119343761A ,2025-01-21
[7]
基板处理方法、半导体装置的制造方法、基板处理装置及程序 [P]. 
照井祐辅 ;
桥本良知 ;
松冈树 ;
长桥知也 .
日本专利 :CN119343760A ,2025-01-21
[8]
基板处理方法、半导体装置的制造方法、基板处理装置及程序 [P]. 
铺田严 ;
工藤敏生 ;
板谷秀治 .
日本专利 :CN119032197A ,2024-11-26
[9]
基板处理方法、半导体装置的制造方法、基板处理装置及程序 [P]. 
小川有人 ;
清野笃郎 .
日本专利 :CN119487615A ,2025-02-18
[10]
基板处理方法、半导体装置的制造方法、程序及基板处理装置 [P]. 
小川有人 .
日本专利 :CN119522476A ,2025-02-25