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基板处理装置、基板支承件、半导体装置的制造方法及程序
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201980099061.9
申请日
:
2019-08-06
公开(公告)号
:
CN114207801A
公开(公告)日
:
2022-03-18
发明(设计)人
:
冈岛优作
申请人
:
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
H01L21683
IPC分类号
:
H01L2131
代理机构
:
北京银龙知识产权代理有限公司 11243
代理人
:
范胜杰;姚海
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-03-18
公开
公开
2022-04-05
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/683 申请日:20190806
共 50 条
[1]
基板处理装置、基板支承件、基板处理方法、半导体器件的制造方法及程序
[P].
小川有人
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
株式会社国际电气
株式会社国际电气
小川有人
.
日本专利
:CN119654441A
,2025-03-18
[2]
基板处理装置、半导体装置的制造方法及程序
[P].
菊池俊之
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
株式会社国际电气
株式会社国际电气
菊池俊之
.
日本专利
:CN120530479A
,2025-08-22
[3]
基板处理装置、半导体装置的制造方法及程序
[P].
板谷秀治
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
株式会社国际电气
株式会社国际电气
板谷秀治
.
日本专利
:CN119895547A
,2025-04-25
[4]
基板处理方法、半导体装置的制造方法、基板处理装置及程序
[P].
森谷敦
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
株式会社国际电气
株式会社国际电气
森谷敦
;
窟田英树
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
株式会社国际电气
株式会社国际电气
窟田英树
;
高桥正纮
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
株式会社国际电气
株式会社国际电气
高桥正纮
.
日本专利
:CN119631163A
,2025-03-14
[5]
基板处理方法、半导体装置的制造方法、程序及基板处理装置
[P].
长桥知也
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
株式会社国际电气
株式会社国际电气
长桥知也
;
陶山渚
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
株式会社国际电气
株式会社国际电气
陶山渚
;
江端慎也
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
株式会社国际电气
株式会社国际电气
江端慎也
;
野原慎吾
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
株式会社国际电气
株式会社国际电气
野原慎吾
.
日本专利
:CN118414692A
,2024-07-30
[6]
基板处理方法、半导体装置的制造方法、程序及基板处理装置
[P].
坪田康寿
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
株式会社国际电气
株式会社国际电气
坪田康寿
;
岸本宗树
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
株式会社国际电气
株式会社国际电气
岸本宗树
.
日本专利
:CN119343761A
,2025-01-21
[7]
基板处理方法、半导体装置的制造方法、基板处理装置及程序
[P].
照井祐辅
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
株式会社国际电气
株式会社国际电气
照井祐辅
;
桥本良知
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
株式会社国际电气
株式会社国际电气
桥本良知
;
松冈树
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
株式会社国际电气
株式会社国际电气
松冈树
;
长桥知也
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
株式会社国际电气
株式会社国际电气
长桥知也
.
日本专利
:CN119343760A
,2025-01-21
[8]
基板处理方法、半导体装置的制造方法、基板处理装置及程序
[P].
铺田严
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
株式会社国际电气
株式会社国际电气
铺田严
;
工藤敏生
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
株式会社国际电气
株式会社国际电气
工藤敏生
;
板谷秀治
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
株式会社国际电气
株式会社国际电气
板谷秀治
.
日本专利
:CN119032197A
,2024-11-26
[9]
基板处理方法、半导体装置的制造方法、基板处理装置及程序
[P].
小川有人
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
株式会社国际电气
株式会社国际电气
小川有人
;
清野笃郎
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
株式会社国际电气
株式会社国际电气
清野笃郎
.
日本专利
:CN119487615A
,2025-02-18
[10]
基板处理方法、半导体装置的制造方法、程序及基板处理装置
[P].
小川有人
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
株式会社国际电气
株式会社国际电气
小川有人
.
日本专利
:CN119522476A
,2025-02-25
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