氧化铟-氧化锌-氧化镁类溅射靶及透明导电膜

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200580009752.3

申请日：

2005-02-23

公开(公告)号：

CN100564579C

公开(公告)日：

2008-02-13

发明(设计)人：

井上一吉松原雅人笘井重和岛根幸朗

申请人：

申请人地址：

日本国东京都

IPC主分类号：

C23C1434

IPC分类号：

C23C1408 G02F11343 H01L21285 H01L2170

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

朱丹

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2008-02-13	公开	公开
2009-12-02	授权	授权
2008-04-09	实质审查的生效	实质审查的生效
2020-02-11	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C 14/34 申请日:20050223 授权公告日:20091202 终止日期:20190223

共 50 条

[1]

氧化镓-氧化锌类溅射靶、透明导电膜及其形成方法 [P].

长田幸三 .

中国专利 :CN101326304B ,2008-12-17

[2]

氧化铟-氧化铈类溅射靶及透明导电膜以及透明导电膜的制造方法 [P].

井上一吉 ;

松原雅人 ;

笘井重和 .

中国专利 :CN1930318B ,2007-03-14

[3]

氧化镓-氧化锌系溅射靶、透明导电膜的形成方法及透明导电膜 [P].

长田幸三 .

中国专利 :CN100549219C ,2008-06-25

[4]

氧化镓-氧化锌系溅射靶、透明导电膜的形成方法及透明导电膜 [P].

长田幸三 .

中国专利 :CN101208453B ,2008-06-25

[5]

氧化铟-氧化锌类（IZO）溅射靶及其制造方法 [P].

挂野崇 .

中国专利 :CN114752901A ,2022-07-15

[6]

氧化铟‑氧化锌类（IZO）溅射靶及其制造方法 [P].

挂野崇 .

中国专利 :CN107267936A ,2017-10-20

[7]

氧化铟-氧化锌类（IZO）溅射靶及其制造方法 [P].

挂野崇 .

中国专利 :CN108930015A ,2018-12-04

[8]

氧化镁溅射靶 [P].

梶田博树 ;

涩谷义孝 ;

成田里安 .

中国专利 :CN112805403A ,2021-05-14

[9]

氧化锌系透明导电膜 [P].

中田邦彦 ;

堀田翔平 .

中国专利 :CN104871257A ,2015-08-26

[10]

氧化铟锡溅射靶和使用该溅射靶制备的透明导电膜 [P].

姜信赫 ;

崔畯皓 ;

高榥庸 ;

郑相澈 .

中国专利 :CN102051587A ,2011-05-11

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