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半导体装置及形成半导体装置的方法
被引:0
申请号
:
CN202110303986.X
申请日
:
2021-03-22
公开(公告)号
:
CN114464679A
公开(公告)日
:
2022-05-10
发明(设计)人
:
沈宇骏
任啟中
洪雅琪
林玉珠
江文智
申请人
:
申请人地址
:
中国台湾新竹市新竹科学工业园区力行六路八号
IPC主分类号
:
H01L2978
IPC分类号
:
H01L29788
H01L21336
H01L29423
代理机构
:
北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006
代理人
:
徐金国
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-05-10
公开
公开
共 50 条
[1]
半导体装置及形成半导体装置的方法
[P].
卢琳蓁
论文数:
0
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0
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0
卢琳蓁
;
辛格·古尔巴格
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辛格·古尔巴格
;
蔡宗翰
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蔡宗翰
;
王柏仁
论文数:
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王柏仁
.
中国专利
:CN113206086A
,2021-08-03
[2]
半导体装置及形成半导体装置的方法
[P].
林彦伯
论文数:
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0
林彦伯
;
李威养
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李威养
;
彭远清
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彭远清
;
林家彬
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林家彬
;
郭俊铭
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郭俊铭
.
中国专利
:CN113314468A
,2021-08-27
[3]
半导体装置及形成半导体装置的方法
[P].
张家玮
论文数:
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0
张家玮
.
中国专利
:CN115547977A
,2022-12-30
[4]
半导体装置及形成半导体装置的方法
[P].
张家玮
论文数:
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机构:
立积电子股份有限公司
立积电子股份有限公司
张家玮
;
黄彦翰
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机构:
立积电子股份有限公司
立积电子股份有限公司
黄彦翰
;
张晋嘉
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机构:
立积电子股份有限公司
立积电子股份有限公司
张晋嘉
.
中国专利
:CN117832215A
,2024-04-05
[5]
半导体装置及形成半导体装置的方法
[P].
乔治·A·凯特尔
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乔治·A·凯特尔
;
洪俊顾
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洪俊顾
;
马克·S·罗德尔
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马克·S·罗德尔
;
达尔门达·雷迪·帕勒
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达尔门达·雷迪·帕勒
.
中国专利
:CN107180792A
,2017-09-19
[6]
半导体装置及形成半导体装置的方法
[P].
卢琳蓁
论文数:
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
卢琳蓁
;
辛格·古尔巴格
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
辛格·古尔巴格
;
蔡宗翰
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
蔡宗翰
;
王柏仁
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
王柏仁
.
中国专利
:CN113206086B
,2025-10-21
[7]
半导体装置及形成半导体装置的方法
[P].
彭士玮
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彭士玮
;
林威呈
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林威呈
;
曾健庭
论文数:
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曾健庭
.
中国专利
:CN112216695A
,2021-01-12
[8]
半导体装置及形成半导体装置的方法
[P].
林孟汉
论文数:
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机构:
力晶积成电子制造股份有限公司
力晶积成电子制造股份有限公司
林孟汉
.
中国专利
:CN120187085A
,2025-06-20
[9]
半导体装置及形成半导体装置的方法
[P].
杨明宗
论文数:
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杨明宗
;
林宪信
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林宪信
;
万文恺
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万文恺
;
钟嘉哲
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钟嘉哲
;
刘致为
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刘致为
.
中国专利
:CN114078791A
,2022-02-22
[10]
半导体装置及形成半导体装置的方法
[P].
林振华
论文数:
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林振华
;
季彦良
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季彦良
;
冉景涵
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冉景涵
.
中国专利
:CN115411110A
,2022-11-29
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