CMP中的温度和浆体流动速率控制

被引：0

申请号：

CN202180014970.5

申请日：

2021-06-24

公开(公告)号：

CN115103738A

公开(公告)日：

2022-09-23

发明(设计)人：

吴昊晟唐建设 B·J·布朗 S-H·沈张寿松 H·桑达拉拉贾恩

申请人：

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

B24B37015

IPC分类号：

B24B4914 B24B5702 H01L2167

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司 31100

代理人：

付尉琳;侯颖媖

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-09-23	公开	公开

共 50 条

[1]

CMP温度控制系统的清洁 [P].

吴昊晟 ;

张寿松 ;

唐建设 ;

J·P·多明 ;

S·达塔 ;

窟康浩 ;

S·德什潘德 ;

C·波拉德 ;

叶思伶 ;

P·迪普 ;

崔凝卓 ;

B·J·布朗 ;

陈辉 .

美国专利 :CN119522151A ,2025-02-25

[2]

用于CMP温度控制的设备和方法 [P].

S·库玛 ;

H·桑达拉拉贾恩 ;

陈辉 ;

张寿松 .

中国专利 :CN115461193A ,2022-12-09

[3]

用于CMP温度控制的装置及方法 [P].

S-S·张 ;

H·桑达拉拉贾恩 ;

吴昊晟 ;

唐建设 .

美国专利 :CN118636051A ,2024-09-13

[4]

用于CMP温度控制的装置及方法 [P].

S-S·张 ;

H·桑达拉拉贾恩 ;

吴昊晟 ;

唐建设 .

中国专利 :CN111836700A ,2020-10-27

[5]

用于CMP温度控制的装置及方法 [P].

S-S·张 ;

H·桑达拉拉贾恩 ;

吴昊晟 ;

唐建设 .

美国专利 :CN111836700B ,2024-07-09

[6]

CMP浆流的闭环控制 [P].

G·E·蒙柯 ;

S·D·蔡 ;

S·J·肖 ;

S·瀚达帕尼 .

中国专利 :CN102782815A ,2012-11-14

[7]

在CMP/清洗系统中现场输送、控制和混合化学药剂和浆体的系统与方法 [P].

彭旭源 ;

图安·源 ;

维安·夸池 ;

周仁 .

中国专利 :CN100480929C ,2005-05-25

[8]

采用无磨料的铜CMP抛光液控制表面凹凸速率差的方法 [P].

栾晓东 ;

邵沁霖 ;

樊硕晨 .

中国专利 :CN119776839A ,2025-04-08

[9]

用于控制移动设备中的温度的系统和方法 [P].

金敃秀 ;

金建卓 ;

朴起演 ;

尹哲垠 ;

李柱范 ;

张世映 ;

赵孝载 ;

千奉守 ;

河英姬 .

中国专利 :CN103918189B ,2014-07-09

[10]

一种用于CMP过程中介质与铜速率选择比的控制方法 [P].

王辰伟 ;

康劲 ;

贾会静 ;

赵健 ;

刘玉岭 ;

盛元慧 ;

刘启旭 .

中国专利 :CN115056132A ,2022-09-16

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