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半导体器件的制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202111161013.3
申请日
:
2021-09-30
公开(公告)号
:
CN113903660B
公开(公告)日
:
2022-01-07
发明(设计)人
:
薛广杰
朱奎
申请人
:
申请人地址
:
430205 湖北省武汉市东湖开发区高新四路18号
IPC主分类号
:
H01L21311
IPC分类号
:
H01L21768
代理机构
:
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237
代理人
:
田婷
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-01-25
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/311 申请日:20210930
2022-01-07
公开
公开
2022-08-19
授权
授权
共 50 条
[1]
半导体器件的制造方法
[P].
朱奎
论文数:
0
引用数:
0
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0
朱奎
;
薛广杰
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0
薛广杰
.
中国专利
:CN113903661A
,2022-01-07
[2]
半导体器件及其制造方法
[P].
鲁林芝
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鲁林芝
;
李乐
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0
李乐
.
中国专利
:CN113421869B
,2021-09-21
[3]
半导体器件及其制造方法
[P].
常冰岩
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0
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机构:
武汉新芯集成电路制造有限公司
武汉新芯集成电路制造有限公司
常冰岩
;
冯远皓
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机构:
武汉新芯集成电路制造有限公司
武汉新芯集成电路制造有限公司
冯远皓
;
薛广杰
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机构:
武汉新芯集成电路制造有限公司
武汉新芯集成电路制造有限公司
薛广杰
;
李乐
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机构:
武汉新芯集成电路制造有限公司
武汉新芯集成电路制造有限公司
李乐
.
中国专利
:CN117673092A
,2024-03-08
[4]
半导体器件及其制造方法
[P].
常冰岩
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机构:
武汉新芯集成电路股份有限公司
武汉新芯集成电路股份有限公司
常冰岩
;
冯远皓
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机构:
武汉新芯集成电路股份有限公司
武汉新芯集成电路股份有限公司
冯远皓
;
薛广杰
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机构:
武汉新芯集成电路股份有限公司
武汉新芯集成电路股份有限公司
薛广杰
;
李乐
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机构:
武汉新芯集成电路股份有限公司
武汉新芯集成电路股份有限公司
李乐
.
中国专利
:CN117673092B
,2024-11-12
[5]
半导体器件的制造方法以及半导体器件
[P].
木城耕一
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木城耕一
.
中国专利
:CN1862790A
,2006-11-15
[6]
半导体器件以及半导体器件的制造方法
[P].
寒河江美友
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寒河江美友
;
佐佐木文雄
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佐佐木文雄
.
中国专利
:CN101145578A
,2008-03-19
[7]
半导体器件以及制造半导体器件的方法
[P].
内田慎一
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内田慎一
;
藏本贵文
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藏本贵文
;
中柴康隆
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0
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0
中柴康隆
.
中国专利
:CN108242443B
,2018-07-03
[8]
制造半导体器件的方法和半导体器件
[P].
江宏礼
论文数:
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江宏礼
;
陈奕升
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陈奕升
;
陈自强
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陈自强
.
中国专利
:CN110690216B
,2020-01-14
[9]
半导体器件及其制造方法
[P].
朱慧珑
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朱慧珑
;
梁擎擎
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梁擎擎
;
骆志炯
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骆志炯
;
尹海洲
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尹海洲
.
中国专利
:CN102956647A
,2013-03-06
[10]
半导体器件及其制造方法
[P].
肖婷
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机构:
武汉新芯集成电路股份有限公司
武汉新芯集成电路股份有限公司
肖婷
;
高天
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机构:
武汉新芯集成电路股份有限公司
武汉新芯集成电路股份有限公司
高天
;
王同信
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机构:
武汉新芯集成电路股份有限公司
武汉新芯集成电路股份有限公司
王同信
;
张伟光
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机构:
武汉新芯集成电路股份有限公司
武汉新芯集成电路股份有限公司
张伟光
.
中国专利
:CN118630066A
,2024-09-10
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