一种具有烘干功能的半导体蚀刻机

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202022518708.X

申请日：

2020-11-04

公开(公告)号：

CN213480943U

公开(公告)日：

2021-06-18

发明(设计)人：

黄伟玲

申请人：

申请人地址：

510000 广东省广州市黄埔区万荟一街50号1305房

IPC主分类号：

F26B2502

IPC分类号：

F26B2100 F26B1512 F26B2500 H01L2167

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法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-06-18	授权	授权

共 50 条

[1]

一种具有烘干功能的半导体蚀刻机 [P].

刘超超 ;

高娟 .

中国专利 :CN216084810U ,2022-03-18

[2]

一种具有废料收集结构的半导体蚀刻机 [P].

黄伟玲 .

中国专利 :CN213124392U ,2021-05-04

[3]

一种具有清洗结构的半导体蚀刻机 [P].

黄伟玲 .

中国专利 :CN213792997U ,2021-07-27

[4]

一种半导体碱蚀刻的烘干装置 [P].

邵文庆 ;

刘亚飞 ;

李圆圆 .

中国专利 :CN221570953U ,2024-08-20

[5]

一种半导体碱蚀刻的烘干装置 [P].

朱恺华 ;

王百强 ;

赵正东 .

中国专利 :CN217154859U ,2022-08-09

[6]

半导体蚀刻机用蚀刻头结构 [P].

万琳旭 .

中国专利 :CN221827843U ,2024-10-11

[7]

一种具有快速装夹结构的半导体蚀刻机 [P].

黄伟玲 .

中国专利 :CN213124411U ,2021-05-04

[8]

一种具有保护功能的半导体 [P].

陈金松 .

中国专利 :CN213845254U ,2021-07-30

[9]

一种制造半导体瀑布式蚀刻机 [P].

卢炎 ;

崔柏伟 ;

陈叶娣 ;

刘东庭 ;

董何建 ;

晁睿 .

中国专利 :CN214327560U ,2021-10-01

[10]

一种带有烘干功能的蚀刻机 [P].

刘俊 ;

廖保安 .

中国专利 :CN222250984U ,2024-12-27

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