喷头及具有其的化学气相沉积装置

被引：0

申请号：

CN202011435937.3

申请日：

2020-12-10

公开(公告)号：

CN114622182A

公开(公告)日：

2022-06-14

发明(设计)人：

郭挑远白国斌高建峰王桂磊田光辉丁云凌

申请人：

申请人地址：

100029 北京市朝阳区北土城西路3号

IPC主分类号：

C23C16455

IPC分类号：

C23C1644

代理机构：

北京辰权知识产权代理有限公司 11619

代理人：

李晶

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-06-14	公开	公开
2022-07-01	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 16/455 申请日:20201210

共 50 条

[1]

喷头及具有其的化学气相沉积装置 [P].

郭挑远 ;

白国斌 ;

高建峰 ;

王桂磊 ;

田光辉 ;

丁云凌 .

中国专利 :CN114622182B ,2024-12-31

[2]

化学气相沉积炉及化学气相沉积装置 [P].

杨竣焜 .

中国专利 :CN120575152A ,2025-09-02

[3]

化学气相沉积装置及其喷头 [P].

卜维亮 ;

平延磊 ;

张炳一 .

中国专利 :CN102051595A ,2011-05-11

[4]

化学气相沉积装置及其喷头 [P].

卜维亮 ;

李勇 ;

曾明 .

中国专利 :CN102140629A ,2011-08-03

[5]

化学气相沉积装置和化学气相沉积方法 [P].

酒井士郎 ;

高松勇吉 ;

森勇次 ;

直井弘之 ;

H·X·王 ;

石滨义康 ;

纲岛丰 .

中国专利 :CN1259450C ,2002-04-17

[6]

化学气相沉积装置及化学气相沉积系统 [P].

杨耀辉 ;

胡文华 ;

梅治民 ;

王维维 ;

俞方旭 ;

席洪峰 ;

罗治湘 .

中国专利 :CN118086872A ,2024-05-28

[7]

化学气相沉积装置及化学气相沉积方法 [P].

刘忠范 ;

亓月 ;

杨钰垚 ;

袁昊 .

中国专利 :CN118814133A ,2024-10-22

[8]

化学气相沉积装置及化学气相沉积方法 [P].

刘恒 .

中国专利 :CN102851651A ,2013-01-02

[9]

化学气相沉积装置 [P].

李相 ;

张祥来 .

中国专利 :CN101126155A ,2008-02-20

[10]

化学气相沉积装置 [P].

陈神星 ;

卢山 ;

王其军 ;

朱海 .

中国专利 :CN216473471U ,2022-05-10

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