化学气相沉积装置和化学气相沉积方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN01141203.8

申请日：

2001-09-28

公开(公告)号：

CN1259450C

公开(公告)日：

2002-04-17

发明(设计)人：

酒井士郎高松勇吉森勇次直井弘之 H·X·王石滨义康纲岛丰

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

C23C1646

IPC分类号：

H01L21205 H01L21365

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：

王杰

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2003-12-03	实质审查的生效	实质审查的生效
2002-04-17	公开	公开
2009-12-02	专利权的终止(未缴年费专利权终止)	专利权的终止(未缴年费专利权终止)
2002-11-27	专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移	专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移变更事项:申请人变更前权利人:日本派欧尼股份株式会社变更后权利人:日本派欧尼股份株式会社变更事项:共同申请人变更前权利人:NPS株式会社变更后权利人:德岛酸素工业株式会社登记生效日:20021011
2006-06-14	授权	授权

共 50 条

[1]

化学气相沉积装置、化学气相沉积方法 [P].

周鸣 .

中国专利 :CN103060772B ,2013-04-24

[2]

化学气相沉积装置及化学气相沉积方法 [P].

刘忠范 ;

亓月 ;

杨钰垚 ;

袁昊 .

中国专利 :CN118814133A ,2024-10-22

[3]

化学气相沉积装置及化学气相沉积方法 [P].

刘恒 .

中国专利 :CN102851651A ,2013-01-02

[4]

化学气相沉积装置 [P].

阿诺德·德雷胡泽 ;

雷米·皮埃尔·罗伯特·布维尔 ;

曼侬·费尔南德斯 .

法国专利 :CN118076765A ,2024-05-24

[5]

化学气相沉积装置 [P].

刘忠范 ;

彭海琳 ;

高翾 ;

张金灿 ;

刘晓婷 ;

马瑞 ;

李广亮 ;

孙禄钊 ;

贾开诚 .

中国专利 :CN111485224A ,2020-08-04

[6]

化学气相沉积装置 [P].

陈神星 ;

卢山 ;

王其军 ;

朱海 .

中国专利 :CN216473471U ,2022-05-10

[7]

化学气相沉积装置 [P].

柯志伟 ;

庄仁吉 ;

范世衡 .

中国专利 :CN1970831A ,2007-05-30

[8]

化学气相沉积装置及化学气相沉积系统 [P].

杨耀辉 ;

胡文华 ;

梅治民 ;

王维维 ;

俞方旭 ;

席洪峰 ;

罗治湘 .

中国专利 :CN118086872A ,2024-05-28

[9]

化学气相沉积炉及化学气相沉积装置 [P].

杨竣焜 .

中国专利 :CN120575152A ,2025-09-02

[10]

化学气相沉积装置 [P].

P·娜尔 ;

C·波瑞恩 ;

J·维蒂耶洛 .

中国专利 :CN105164308B ,2015-12-16

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