一种半导体硅片清洗喷淋装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202020774475.7

申请日：

2020-05-12

公开(公告)号：

CN212681814U

公开(公告)日：

2021-03-12

发明(设计)人：

刘园袁祥龙武卫刘建伟祝斌刘姣龙裴坤羽孙晨光王彦君王聚安由佰玲常雪岩杨春雪谢艳刘秒吕莹徐荣清

申请人：

申请人地址：

300384 天津市滨海新区华苑产业区（环外）海泰东路12号

IPC主分类号：

B08B302

IPC分类号：

H01L2167

代理机构：

天津诺德知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 12213

代理人：

栾志超

法律状态：

授权

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-03-12	授权	授权

共 50 条

[1]

半导体硅片的清洗装置 [P].

张晨骋 .

中国专利 :CN200997395Y ,2007-12-26

[2]

一种半导体硅片用清洗装置 [P].

余涛 ;

朴灵绪 ;

郭巍 .

中国专利 :CN213826091U ,2021-07-30

[3]

半导体硅片清洗装置 [P].

张晨骋 .

中国专利 :CN201348988Y ,2009-11-18

[4]

一种半导体硅片的清洗装置 [P].

王茂荣 .

中国专利 :CN221335691U ,2024-07-16

[5]

一种半导体硅片清洗釜 [P].

王宁 .

中国专利 :CN213162190U ,2021-05-11

[6]

一种半导体硅片清洗釜 [P].

靳光亚 ;

王佳鹏 ;

王娅 ;

朱松阳 ;

吕媛 ;

程友良 .

中国专利 :CN204577408U ,2015-08-19

[7]

一种半导体硅片清洗釜 [P].

李倩 .

中国专利 :CN208912645U ,2019-05-31

[8]

一种半导体硅片清洗腔 [P].

余涛 ;

唐杰 ;

朴灵绪 ;

张霞 ;

郭巍 .

中国专利 :CN211455668U ,2020-09-08

[9]

一种半导体清洗设备喷淋装置 [P].

陈燏 .

中国专利 :CN216631771U ,2022-05-31

[10]

一种半导体清洗用喷淋装置 [P].

茆宏 ;

宁江斌 ;

郁言威 ;

高兴 ;

陆嘉黎 ;

李民 ;

王耽耽 .

中国专利 :CN223684067U ,2025-12-19

← 1 2 3 4 5 →