半导体器件和电位测量装置

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201880057569.8
申请日
2018-10-23
公开(公告)号
CN111066240A
公开(公告)日
2020-04-24
发明(设计)人
加藤祐理
申请人
申请人地址
日本神奈川县
IPC主分类号
H03F345
IPC分类号
G01N27414 G01R2912 H03F368
代理机构
北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290
代理人
陈桂香;曹正建
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体器件和电位测量装置 [P]. 
加藤祐理 .
日本专利 :CN111066240B ,2024-03-19
[2]
半导体装置和电位测量装置 [P]. 
佐藤正启 ;
亀谷真知子 ;
小木纯 ;
加藤祐理 .
中国专利 :CN110023746B ,2019-07-16
[3]
半导体装置和细胞电位测量设备 [P]. 
加藤祐理 ;
大池祐辅 .
中国专利 :CN109313158B ,2019-02-05
[4]
半导体装置和电位测量装置 [P]. 
佐藤正启 ;
亀谷真知子 ;
小木纯 ;
加藤祐理 .
中国专利 :CN109952505A ,2019-06-28
[5]
单片半导体器件和半导体器件 [P]. 
J·W·霍尔 ;
G·M·格里弗纳 .
中国专利 :CN208189591U ,2018-12-04
[6]
半导体器件测量装置 [P]. 
靳凯 .
中国专利 :CN221859515U ,2024-10-18
[7]
半导体器件和半导体装置 [P]. 
K.霍赛尼 ;
A.毛德 .
中国专利 :CN203521403U ,2014-04-02
[8]
半导体器件和电源装置 [P]. 
牧野良成 ;
横田健一 ;
田泽朋裕 .
中国专利 :CN102263492B ,2011-11-30
[9]
半导体器件和半导体器件的制造方法 [P]. 
铃村功 ;
神内纪秀 ;
渡壁创 ;
花田明纮 ;
小野寺凉 .
中国专利 :CN111554692A ,2020-08-18
[10]
单片半导体器件和半导体器件 [P]. 
J·W·霍尔 ;
G·M·格里弗纳 .
中国专利 :CN208189592U ,2018-12-04