一种电化学机械抛光机

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202010442592.8

申请日：

2020-05-22

公开(公告)号：

CN111515852A

公开(公告)日：

2020-08-11

发明(设计)人：

许文虎钟敏吴品杰

申请人：

申请人地址：

330000 江西省南昌市东湖区红谷滩新区学府大道999号

IPC主分类号：

B24B3710

IPC分类号：

B24B3734 B24B4720 B24B5702 H01L21304

代理机构：

南昌青远专利代理事务所(普通合伙) 36123

代理人：

唐棉棉

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-08-11	公开	公开
2020-09-04	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):B24B 37/10 申请日:20200522

共 50 条

[1]

一种电化学机械抛光机 [P].

许文虎 ;

钟敏 ;

吴品杰 .

中国专利 :CN212794514U ,2021-03-26

[2]

一种电化学机械抛光机 [P].

张跃锋 .

中国专利 :CN222226635U ,2024-12-24

[3]

电化学机械抛光装置 [P].

倪建明 .

中国专利 :CN105710761A ,2016-06-29

[4]

一种电化学机械抛光装置 [P].

左晓磊 ;

王磊 ;

张康 ;

刘永进 ;

李婷 .

中国专利 :CN117568908A ,2024-02-20

[5]

一种电化学机械抛光方法 [P].

杨亮 ;

王磊 ;

左晓磊 ;

张康 ;

李婷 .

中国专利 :CN117943966A ,2024-04-30

[6]

一种电化学机械抛光设备 [P].

吴尚东 ;

史霄 ;

刘福强 ;

尹影 ;

李婷 .

中国专利 :CN119077609A ,2024-12-06

[7]

一种用于电化学机械抛光的抛光吸附盘机构及电化学机械抛光系统 [P].

朱自强 ;

杨渊思 .

中国专利 :CN120533612A ,2025-08-26

[8]

用于电化学机械抛光的抛光垫 [P].

J·G·埃米恩 ;

D·B·詹姆斯 .

中国专利 :CN100385631C ,2005-11-30

[9]

用于电化学机械抛光的抛光垫 [P].

罗兰·K·塞维利亚 .

中国专利 :CN1809445A ,2006-07-26

[10]

用于电化学机械抛光的抛光垫 [P].

李·M.·库克 ;

戴维·B.·詹姆斯 ;

约翰·V.·H·罗伯兹 .

中国专利 :CN100347825C ,2005-09-07

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