一种电化学机械抛光装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202311597143.0

申请日：

2023-11-27

公开(公告)号：

CN117568908A

公开(公告)日：

2024-02-20

发明(设计)人：

左晓磊王磊张康刘永进李婷

申请人：

北京晶亦精微科技股份有限公司

申请人地址：

100176 北京市大兴区经济技术开发区泰河三街1号2幢2层101

IPC主分类号：

C25F7/00

IPC分类号：

C25F3/30 B24B37/20 B24B37/27 B24B37/34 B24B47/12 B24B47/22 B24B57/02 B24B53/017 B24B53/12

代理机构：

北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250

代理人：

刘心宇

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

安徽省宣城市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-03-08	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C25F 7/00申请日:20231127
2024-02-20	公开	公开

共 50 条

[1]

电化学机械抛光装置 [P].

倪建明 .

中国专利 :CN105710761A ,2016-06-29

[2]

一种电化学机械抛光方法 [P].

杨亮 ;

王磊 ;

左晓磊 ;

张康 ;

李婷 .

中国专利 :CN117943966A ,2024-04-30

[3]

一种电化学机械抛光设备 [P].

吴尚东 ;

史霄 ;

刘福强 ;

尹影 ;

李婷 .

中国专利 :CN119077609A ,2024-12-06

[4]

一种电化学机械抛光头及抛光装置 [P].

王子睿 ;

王永光 ;

刘庆升 ;

丁钊 ;

朱睿 ;

成锋 ;

师晓曼 ;

彭超 .

中国专利 :CN116423384B ,2024-06-21

[5]

一种用于电化学机械抛光的抛光吸附盘机构及电化学机械抛光系统 [P].

朱自强 ;

杨渊思 .

中国专利 :CN120533612A ,2025-08-26

[6]

用于电化学机械抛光的抛光垫 [P].

J·G·埃米恩 ;

D·B·詹姆斯 .

中国专利 :CN100385631C ,2005-11-30

[7]

用于电化学机械抛光的抛光垫 [P].

罗兰·K·塞维利亚 .

中国专利 :CN1809445A ,2006-07-26

[8]

用于电化学机械抛光的抛光垫 [P].

李·M.·库克 ;

戴维·B.·詹姆斯 ;

约翰·V.·H·罗伯兹 .

中国专利 :CN100347825C ,2005-09-07

[9]

电化学机械抛光控制方法及装置 [P].

汪以祥 ;

廖磊华 ;

郭称发 .

中国专利 :CN118531488B ,2025-02-21

[10]

电化学机械抛光控制方法及装置 [P].

汪以祥 ;

廖磊华 ;

郭称发 .

中国专利 :CN118531488A ,2024-08-23

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