等离子体处理装置以及等离子体处理装置用气体供给机构

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201080003487.9

申请日：

2010-09-14

公开(公告)号：

CN102239544A

公开(公告)日：

2011-11-09

发明(设计)人：

岩崎征英野沢俊久

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L2131

IPC分类号：

C23C16455 C23C16511 H01L213065

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

李伟;舒艳君

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-11-09	公开	公开
2011-12-21	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101158513099 IPC(主分类):H01L 21/31 专利申请号:2010800034879 申请日:20100914
2014-02-19	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101692895526 IPC(主分类):H01L 21/31 专利申请号:2010800034879 申请公布日:20111109

共 50 条

[1]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

久保田绅治 .

中国专利 :CN107452589B ,2017-12-08

[2]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

舟久保隆男 ;

芳贺博文 ;

狐塚慎一 ;

小澤亘 ;

坂本晃浩 ;

谷口直树 ;

辻本宏 ;

大野久美子 .

中国专利 :CN105225913B ,2016-01-06

[3]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

舆水地盐 .

中国专利 :CN101853765A ,2010-10-06

[4]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

石桥清隆 .

中国专利 :CN101587825B ,2009-11-25

[5]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

具滋明 ;

肖特拉克尔言 ;

具重谟 ;

赵台勋 .

韩国专利 :CN112151344B ,2024-07-09

[6]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

具滋明 ;

肖特拉克尔言 ;

具重谟 ;

赵台勋 .

中国专利 :CN112151344A ,2020-12-29

[7]

等离子体处理方法以及等离子体处理装置 [P].

小林保男 ;

川村刚平 .

中国专利 :CN100508134C ,2006-12-20

[8]

等离子体处理方法以及等离子体处理装置 [P].

箕浦佑也 .

中国专利 :CN113964010A ,2022-01-21

[9]

等离子体处理用气体、等离子体处理方法及等离子体处理装置 [P].

末田一行 ;

笹仓昌浩 ;

山本凌音 ;

角川舞 .

中国专利 :CN115699264A ,2023-02-03

[10]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

东条利洋 ;

齐藤均 ;

佐藤亮 .

中国专利 :CN101277579B ,2008-10-01

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