等离子体处理装置以及等离子体处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202010451032.9

申请日：

2020-05-25

公开(公告)号：

CN112151344A

公开(公告)日：

2020-12-29

发明(设计)人：

具滋明肖特拉克尔言具重谟赵台勋

申请人：

申请人地址：

韩国忠清南道

IPC主分类号：

H01J3732

IPC分类号：

代理机构：

北京钲霖知识产权代理有限公司 11722

代理人：

李英艳;玉昌峰

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-08-13	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/32 申请日:20200525
2020-12-29	公开	公开

共 50 条

[1]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

具滋明 ;

肖特拉克尔言 ;

具重谟 ;

赵台勋 .

韩国专利 :CN112151344B ,2024-07-09

[2]

等离子体处理方法以及等离子体处理装置 [P].

武藤悟 ;

小野哲郎 ;

大越康雄 ;

永德宏文 .

中国专利 :CN104103486B ,2014-10-15

[3]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

森本未知数 ;

大越康雄 ;

大平原勇造 ;

小野哲郎 .

中国专利 :CN103632914A ,2014-03-12

[4]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

安藤阳二 ;

小野哲郎 ;

臼井建人 .

中国专利 :CN103811249B ,2014-05-21

[5]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

山田一也 ;

山本浩一 ;

安井尚辉 ;

池田纪彦 ;

森功 .

中国专利 :CN109524288A ,2019-03-26

[6]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

铃木达也 ;

樫部诚 .

中国专利 :CN115004863A ,2022-09-02

[7]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

园田靖 .

中国专利 :CN112424911A ,2021-02-26

[8]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

岩田学 ;

舆水地盐 ;

山泽阳平 .

中国专利 :CN1734712A ,2006-02-15

[9]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

达下弘一 .

中国专利 :CN111293027A ,2020-06-16

[10]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

铃木达也 ;

樫部诚 .

日本专利 :CN115004863B ,2025-10-14

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