等离子体处理装置以及等离子体处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201911233093.1

申请日：

2019-12-05

公开(公告)号：

CN111293027A

公开(公告)日：

2020-06-16

发明(设计)人：

达下弘一

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01J3732

IPC分类号：

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇;张会华

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-07-10	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/32 申请日:20191205
2020-06-16	公开	公开

共 50 条

[1]

等离子体处理方法以及等离子体处理装置 [P].

武藤悟 ;

小野哲郎 ;

大越康雄 ;

永德宏文 .

中国专利 :CN104103486B ,2014-10-15

[2]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

里吉务 .

中国专利 :CN1477682A ,2004-02-25

[3]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

森本未知数 ;

大越康雄 ;

大平原勇造 ;

小野哲郎 .

中国专利 :CN103632914A ,2014-03-12

[4]

等离子体处理方法以及等离子体处理装置 [P].

玉虫元 .

中国专利 :CN115513030A ,2022-12-23

[5]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

安藤阳二 ;

小野哲郎 ;

臼井建人 .

中国专利 :CN103811249B ,2014-05-21

[6]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

齐藤均 ;

佐藤亮 .

中国专利 :CN101465283A ,2009-06-24

[7]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

山田一也 ;

山本浩一 ;

安井尚辉 ;

池田纪彦 ;

森功 .

中国专利 :CN109524288A ,2019-03-26

[8]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

具滋明 ;

肖特拉克尔言 ;

具重谟 ;

赵台勋 .

韩国专利 :CN112151344B ,2024-07-09

[9]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

齐藤均 ;

佐藤亮 .

中国专利 :CN101969016A ,2011-02-09

[10]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

具滋明 ;

肖特拉克尔言 ;

具重谟 ;

赵台勋 .

中国专利 :CN112151344A ,2020-12-29

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