等离子体处理装置以及等离子体处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN03149536.2

申请日：

2003-07-15

公开(公告)号：

CN1477682A

公开(公告)日：

2004-02-25

发明(设计)人：

里吉务

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L213065

IPC分类号：

H01L2100 G02F113

代理机构：

北京纪凯知识产权代理有限公司

代理人：

龙淳;沙捷

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2004-02-25	公开	公开
2005-08-24	实质审查的生效	实质审查的生效
2007-10-03	授权	授权

共 50 条

[1]

等离子体处理方法以及等离子体处理装置 [P].

武藤悟 ;

小野哲郎 ;

大越康雄 ;

永德宏文 .

中国专利 :CN104103486B ,2014-10-15

[2]

等离子体处理方法以及等离子体处理装置 [P].

玉虫元 .

中国专利 :CN115513030A ,2022-12-23

[3]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

饭岛悦夫 ;

土屋浩 .

中国专利 :CN1228820C ,2004-03-10

[4]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

齐藤均 ;

佐藤亮 .

中国专利 :CN101465283A ,2009-06-24

[5]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

齐藤均 ;

佐藤亮 .

中国专利 :CN101969016A ,2011-02-09

[6]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

园田靖 .

中国专利 :CN112424911A ,2021-02-26

[7]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

岩田学 ;

舆水地盐 ;

山泽阳平 .

中国专利 :CN1734712A ,2006-02-15

[8]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

达下弘一 .

中国专利 :CN111293027A ,2020-06-16

[9]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

岩田学 ;

舆水地盐 ;

山泽阳平 .

中国专利 :CN102184830A ,2011-09-14

[10]

等离子体处理方法以及等离子体处理装置 [P].

玉虫元 .

日本专利 :CN117597767A ,2024-02-23

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