学术探索
学术期刊
学术作者
新闻热点
数据分析
智能评审
等离子体处理装置以及等离子体处理方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN200810186165.7
申请日
:
2008-12-19
公开(公告)号
:
CN101465283A
公开(公告)日
:
2009-06-24
发明(设计)人
:
齐藤均
佐藤亮
申请人
:
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
H01L2100
IPC分类号
:
H01L21311
H01J3732
H05H146
代理机构
:
北京尚诚知识产权代理有限公司
代理人
:
龙 淳
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
引用
下载
收藏
法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2009-08-19
实质审查的生效
实质审查的生效
2009-06-24
公开
公开
2012-04-25
授权
授权
共 50 条
[1]
等离子体处理装置以及等离子体处理方法
[P].
齐藤均
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
齐藤均
;
佐藤亮
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
佐藤亮
.
中国专利
:CN101969016A
,2011-02-09
[2]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
进藤崇央
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
进藤崇央
;
冈本清一
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
冈本清一
;
大友洋
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
大友洋
;
菊地贵伦
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
菊地贵伦
;
松土龙夫
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
松土龙夫
;
森田靖
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
森田靖
;
佐久间隆
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
佐久间隆
.
中国专利
:CN113936985A
,2022-01-14
[3]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
进藤崇央
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
进藤崇央
;
冈本清一
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
冈本清一
;
大友洋
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
大友洋
;
菊地贵伦
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
菊地贵伦
;
松土龙夫
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
松土龙夫
;
森田靖
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
森田靖
;
佐久间隆
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
佐久间隆
.
日本专利
:CN113936985B
,2025-03-11
[4]
等离子体处理方法以及等离子体处理装置
[P].
箕浦佑也
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
箕浦佑也
.
中国专利
:CN113964010A
,2022-01-21
[5]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
舆水地盐
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
舆水地盐
;
山泽阳平
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
山泽阳平
.
中国专利
:CN102522304A
,2012-06-27
[6]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
松本直树
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
松本直树
;
舆水地盐
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
舆水地盐
;
舆石公
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
舆石公
.
中国专利
:CN100446637C
,2006-10-04
[7]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
丸山幸儿
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
丸山幸儿
;
堀口将人
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
堀口将人
;
松木哲理
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
松木哲理
;
舆石公
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
舆石公
.
中国专利
:CN105379428B
,2016-03-02
[8]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
舆水地盐
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
舆水地盐
;
山泽阳平
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
山泽阳平
.
中国专利
:CN101847558B
,2010-09-29
[9]
等离子体处理方法和等离子体处理装置
[P].
高山航
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
高山航
;
近江宗行
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
近江宗行
;
伊深怜
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
伊深怜
;
五十岚大
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
五十岚大
;
铃木贵幸
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
铃木贵幸
;
村上贵宏
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
村上贵宏
.
中国专利
:CN110246739A
,2019-09-17
[10]
等离子体处理方法和等离子体处理装置
[P].
高山航
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
高山航
;
近江宗行
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
近江宗行
;
伊深怜
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
伊深怜
;
五十岚大
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
五十岚大
;
铃木贵幸
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
铃木贵幸
;
村上贵宏
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
村上贵宏
.
日本专利
:CN110246739B
,2024-07-02
←
1
2
3
4
5
→