等离子体处理方法以及等离子体处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202110817823.3

申请日：

2021-07-20

公开(公告)号：

CN113964010A

公开(公告)日：

2022-01-21

发明(设计)人：

箕浦佑也

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01J3732

IPC分类号：

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-01-21	公开	公开

共 50 条

[1]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

齐藤均 ;

佐藤亮 .

中国专利 :CN101465283A ,2009-06-24

[2]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

齐藤均 ;

佐藤亮 .

中国专利 :CN101969016A ,2011-02-09

[3]

等离子体处理方法以及等离子体处理装置 [P].

小林保男 ;

川村刚平 .

中国专利 :CN100508134C ,2006-12-20

[4]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

久保田绅治 .

中国专利 :CN107452589B ,2017-12-08

[5]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

舟久保隆男 ;

芳贺博文 ;

狐塚慎一 ;

小澤亘 ;

坂本晃浩 ;

谷口直树 ;

辻本宏 ;

大野久美子 .

中国专利 :CN105225913B ,2016-01-06

[6]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

舆水地盐 .

中国专利 :CN101853765A ,2010-10-06

[7]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

石桥清隆 .

中国专利 :CN101587825B ,2009-11-25

[8]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

堀口贵弘 .

中国专利 :CN101005007A ,2007-07-25

[9]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

西野雅 ;

真壁正嗣 ;

长山将之 ;

半田达也 ;

绿川良太郎 ;

小林启悟 ;

仁矢铁也 .

中国专利 :CN103959447A ,2014-07-30

[10]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

阪根亮太 ;

小林秀行 ;

长畑寿 ;

罗重佑 .

中国专利 :CN108172493B ,2018-06-15

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