一种变入射角度光谱椭偏成像测量的系统和方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200710063016.7

申请日：

2007-01-24

公开(公告)号：

CN101231239A

公开(公告)日：

2008-07-30

发明(设计)人：

靳刚孟永宏

申请人：

申请人地址：

100080北京市海淀区北四环西路15号

IPC主分类号：

G01N2121

IPC分类号：

G01N2141 G01N2101 G02B2600

代理机构：

北京泛华伟业知识产权代理有限公司

代理人：

高存秀

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2008-09-24	实质审查的生效	实质审查的生效
2008-07-30	公开	公开
2011-09-14	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101183789553 IPC(主分类):G01N 21/21 专利申请号:2007100630167 公开日:20080730

共 50 条

[1]

入射角度扫描椭偏成像测量方法和装置 [P].

靳刚 ;

孟永宏 .

中国专利 :CN100370219C ,2005-11-23

[2]

用于纳米薄膜表面测量的变入射角度光谱椭偏成像装置 [P].

靳刚 ;

孟永宏 .

中国专利 :CN201000428Y ,2008-01-02

[3]

一种光谱椭偏装置和光谱椭偏测量系统 [P].

王瑜 ;

请求不公布姓名 ;

杨峰 ;

吕彤欣 .

中国专利 :CN220649786U ,2024-03-22

[4]

一种宽光谱双变入射角系统广义椭偏仪 [P].

薛鹏 ;

谢大洋 ;

张瑞 ;

刘政杰 ;

李孟委 .

中国专利 :CN114894311B ,2025-02-07

[5]

一种宽光谱双变入射角系统广义椭偏仪 [P].

薛鹏 ;

谢大洋 ;

张瑞 ;

刘政杰 ;

李孟委 .

中国专利 :CN114894311A ,2022-08-12

[6]

一种可变入射角的光谱椭偏仪 [P].

陈星 ;

许岚 ;

计亚平 ;

冯泽舟 .

中国专利 :CN114910422A ,2022-08-16

[7]

一种高压光谱椭偏测量装置及测量方法 [P].

江浩 ;

刘佳敏 ;

王勐 ;

刘世元 ;

王一帆 ;

谷洪刚 .

中国专利 :CN113740269A ,2021-12-03

[8]

光线入射角度的测量系统及方法 [P].

闫钰锋 ;

丁晓 ;

李洋 ;

付跃刚 ;

白素平 ;

周见红 ;

王世峰 ;

宋鸿飞 ;

牟达 ;

王崇娥 ;

王赫 ;

郭逢时 .

中国专利 :CN108317970B ,2018-07-24

[9]

一种宽光谱椭偏测量设备 [P].

张洪松 ;

刘亮 .

中国专利 :CN115096208A ,2022-09-23

[10]

光谱椭偏测量方法、系统及存储介质 [P].

韩景珊 ;

王瑜 ;

杨峰 ;

吕彤欣 .

中国专利 :CN116297227B ,2025-08-12

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