用于纳米薄膜表面测量的变入射角度光谱椭偏成像装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN200720103324.3

申请日：

2007-01-24

公开(公告)号：

CN201000428Y

公开(公告)日：

2008-01-02

发明(设计)人：

靳刚孟永宏

申请人：

申请人地址：

100080北京市海淀区北四环西路15号

IPC主分类号：

G01N2121

IPC分类号：

G01B1102

代理机构：

北京泛华伟业知识产权代理有限公司

代理人：

高存秀

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-03-28	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101213309942 IPC(主分类):G01N 21/21 专利号:ZL2007201033243 申请日:20070124 授权公告日:20080102 终止日期:20110124
2008-01-02	授权	授权

共 18 条

[1]

入射角度扫描椭偏成像测量方法和装置 [P].

靳刚 ;

孟永宏 .

中国专利 :CN100370219C ,2005-11-23

[2]

一种变入射角度光谱椭偏成像测量的系统和方法 [P].

靳刚 ;

孟永宏 .

中国专利 :CN101231239A ,2008-07-30

[3]

一种可变入射角的光谱椭偏仪 [P].

陈星 ;

许岚 ;

计亚平 ;

冯泽舟 .

中国专利 :CN114910422A ,2022-08-16

[4]

用于纳米颗粒的光谱椭偏拟合方法 [P].

贺涛 ;

王凯 ;

褚卫国 ;

张先锋 .

中国专利 :CN106092861B ,2016-11-09

[5]

一种适用于光谱椭偏仪的薄膜厚度初值测量方法 [P].

郭春付 ;

夏小荣 ;

李伟奇 ;

张传维 ;

李竹 .

中国专利 :CN109470154A ,2019-03-15

[6]

一种用于椭偏测量中的光强调节方法和装置 [P].

孟永宏 ;

靳刚 .

中国专利 :CN101231238A ,2008-07-30

[7]

一种声波入射角度任意可调的超声透射测量装置 [P].

卞泽琦 ;

吴斌 ;

吕炎 ;

高杰 ;

何存富 .

中国专利 :CN118258888A ,2024-06-28

[8]

一种基于弹光调制的光谱椭偏测量装置及方法 [P].

李克武 ;

王志斌 ;

王爽 ;

李晓 .

中国专利 :CN108519335A ,2018-09-11

[9]

一种基于激光椭偏系统的薄膜厚度测量装置及测量方法 [P].

雷李华 ;

曹程明 ;

沈瑶琼 ;

管钰晴 ;

邹文哲 ;

傅云霞 .

中国专利 :CN115112028A ,2022-09-27

[10]

光谱椭偏测量中厚度不均匀致退偏效应的修正方法及装置 [P].

张传维 ;

刘贤熠 ;

郭春付 ;

李伟奇 ;

刘世元 .

中国专利 :CN111122459B ,2020-05-08