具有等离子体辐射源的设备和形成辐射束的方法以及光刻设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200880004740.5

申请日：

2008-02-14

公开(公告)号：

CN101606104A

公开(公告)日：

2009-12-16

发明(设计)人：

V·M·克里夫特逊 V·Y·班尼恩 V·V·伊娃诺夫 E·D·克洛普 K·N·克什烈夫 Y·V·斯戴尼克夫 O·雅克什夫

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

王新华

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-06-27	授权	授权
2010-02-10	实质审查的生效	实质审查的生效
2016-03-30	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101653311970 IPC(主分类):G03F 7/20 专利号:ZL2008800047405 申请日:20080214 授权公告日:20120627 终止日期:20150214
2009-12-16	公开	公开

共 50 条

[1]

具有等离子体辐射源的设备和形成辐射束的方法以及光刻设备 [P].

V·M·克里夫特逊 ;

V·Y·班尼恩 ;

V·V·伊娃诺夫 ;

E·D·克洛普 ;

K·N·克什烈夫 ;

Y·V·斯戴尼克夫 ;

O·雅克什夫 .

中国专利 :CN102681362A ,2012-09-19

[2]

辐射源和光刻设备 [P].

O·诺德曼 ;

M·奥林斯 .

中国专利 :CN105474101B ,2016-04-06

[3]

辐射源和光刻设备 [P].

A·亚库宁 ;

V·班尼恩 ;

V·伊万诺夫 ;

E·鲁普斯特拉 ;

V·克里夫特苏恩 ;

G·斯温克尔斯 ;

D·兰贝特斯基 .

中国专利 :CN103257532B ,2013-08-21

[4]

辐射源和光刻设备 [P].

A·亚库宁 ;

V·班尼恩 ;

V·伊万诺夫 ;

E·鲁普斯特拉 ;

V·克里夫特苏恩 ;

G·斯温克尔斯 ;

D·兰贝特斯基 .

中国专利 :CN102144191B ,2011-08-03

[5]

辐射源和光刻设备 [P].

M·A·C·斯凯皮斯 ;

M·F·A·欧林斯 ;

F·J·J·杰森 ;

B·J·A·斯道米恩 ;

H·J·M·柯鲁维尔 ;

J·考亨 ;

H·帕特尔 ;

P·W·J·杰森 ;

M·K·J·伯恩 .

中国专利 :CN102819194B ,2012-12-12

[6]

辐射源和光刻设备 [P].

C·华格纳 ;

E·鲁普斯特拉 .

中国专利 :CN103748968A ,2014-04-23

[7]

减少等离子体辐射源中的快离子 [P].

V·V·伊万诺夫 ;

V·Y·班尼恩 ;

K·N·科什烈夫 .

中国专利 :CN101569243A ,2009-10-28

[8]

辐射源、光刻设备以及器件制造方法 [P].

A·凯姆鹏 ;

V·班尼恩 ;

V·伊万诺夫 ;

E·鲁普斯卓 .

中国专利 :CN102119366A ,2011-07-06

[9]

控制辐射源和包括辐射源的光刻设备的方法 [P].

W·奥普特鲁特 ;

A·博默 ;

R·德琼 ;

F·埃弗茨 ;

H·戈德弗雷德 ;

R·斯托尔克 ;

P·范德文 .

中国专利 :CN105229535B ,2016-01-06

[10]

辐射源和光刻设备 [P].

H·斯希梅尔 ;

J·迪吉克斯曼 ;

D·兰贝特斯基 .

中国专利 :CN103765998A ,2014-04-30

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