控制辐射源和包括辐射源的光刻设备的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201480028983.8

申请日：

2014-04-16

公开(公告)号：

CN105229535B

公开(公告)日：

2016-01-06

发明(设计)人：

W·奥普特鲁特 A·博默 R·德琼 F·埃弗茨 H·戈德弗雷德 R·斯托尔克 P·范德文

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

H01S3225 H01S3104 H01S30975

代理机构：

北京市金杜律师事务所 11256

代理人：

王茂华;吕世磊

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-01-06	公开	公开
2016-02-03	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101644508154 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2014800289838 申请日:20140416
2017-09-15	授权	授权

共 50 条

[1]

用于辐射源的部件、关联的辐射源和光刻设备 [P].

H-K·尼恩惠斯 .

中国专利 :CN105408817A ,2016-03-16

[2]

辐射源和光刻设备 [P].

A·亚库宁 ;

V·班尼恩 ;

V·伊万诺夫 ;

E·鲁普斯特拉 ;

V·克里夫特苏恩 ;

G·斯温克尔斯 ;

D·兰贝特斯基 .

中国专利 :CN103257532B ,2013-08-21

[3]

辐射源和光刻设备 [P].

H·斯希梅尔 ;

J·迪吉克斯曼 ;

D·兰贝特斯基 .

中国专利 :CN103765998A ,2014-04-30

[4]

辐射源和光刻设备 [P].

O·诺德曼 ;

M·奥林斯 .

中国专利 :CN105474101B ,2016-04-06

[5]

辐射源和光刻设备 [P].

M·A·C·斯凯皮斯 ;

M·F·A·欧林斯 ;

F·J·J·杰森 ;

B·J·A·斯道米恩 ;

H·J·M·柯鲁维尔 ;

J·考亨 ;

H·帕特尔 ;

P·W·J·杰森 ;

M·K·J·伯恩 .

中国专利 :CN102819194B ,2012-12-12

[6]

辐射源和光刻设备 [P].

A·亚库宁 ;

V·班尼恩 ;

V·伊万诺夫 ;

E·鲁普斯特拉 ;

V·克里夫特苏恩 ;

G·斯温克尔斯 ;

D·兰贝特斯基 .

中国专利 :CN102144191B ,2011-08-03

[7]

辐射源和光刻设备 [P].

C·华格纳 ;

E·鲁普斯特拉 .

中国专利 :CN103748968A ,2014-04-23

[8]

辐射源模块和光刻设备 [P].

H·帕特尔 ;

马悦 ;

G·纳基伯格鲁 ;

A·P·里杰普马 ;

A·J·范德内特 ;

R·H·弗黑斯 ;

阳宗全 .

中国专利 :CN110799904A ,2020-02-14

[9]

EUV辐射源和光刻设备 [P].

E·鲁普斯特拉 ;

G·斯温克尔斯 ;

E·布雷曼 ;

W·梅斯特龙 .

中国专利 :CN102714911A ,2012-10-03

[10]

辐射源与光刻设备 [P].

A·肯彭 ;

J·迪杰克斯曼 ;

W·梅特斯洛姆 .

中国专利 :CN104160337B ,2014-11-19

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