基板的等离子处理装置和等离子处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200710148832.8

申请日：

2007-08-31

公开(公告)号：

CN101137269B

公开(公告)日：

2008-03-05

发明(设计)人：

宇井明生

申请人：

申请人地址：

日本东京都港区芝浦一丁目1番1号

IPC主分类号：

H05H146

IPC分类号：

H01L2131

代理机构：

上海市华诚律师事务所 31210

代理人：

徐申民;张惠萍

法律状态：

专利申请权、专利权的转移

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-08-22	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101757522182 IPC(主分类):H05H 1/46 专利号:ZL2007101488328 登记生效日:20170802 变更事项:专利权人变更前权利人:株式会社东芝变更后权利人:东芝存储器株式会社变更事项:地址变更前权利人:日本东京都港区芝浦一丁目1番1号变更后权利人:日本国东京都港区芝浦一丁目1番1号
2012-10-03	授权	授权
2022-02-08	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H05H 1/46 变更事项:专利权人变更前:东芝内存株式会社变更后:Kioxia株式会社变更事项:地址变更前:日本东京都港区芝浦一丁目1番1号变更后:日本东京都港区芝浦三丁目1番21号
2022-02-08	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H05H 1/46 变更事项:专利权人变更前:株式会社Pangea 变更后:东芝内存株式会社变更事项:地址变更前:日本国东京都千代田区丸之内一丁目1番1号宫殿大厦5楼变更后:日本东京都港区芝浦一丁目1番1号
2008-03-05	公开	公开
2022-02-08	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移 IPC(主分类):H05H 1/46 登记生效日:20220121 变更事项:专利权人变更前权利人:东芝存储器株式会社变更后权利人:株式会社Pangea 变更事项:地址变更前权利人:日本国东京都港区芝浦一丁目１番１号变更后权利人:日本国东京都千代田区丸之内一丁目1番1号宫殿大厦5楼
2008-04-30	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

基板的等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

宇井明生 .

中国专利 :CN101137268A ,2008-03-05

[2]

基板的等离子处理装置 [P].

宇井明生 ;

市川尚志 ;

玉置直树 ;

林久贵 ;

小岛章弘 .

中国专利 :CN101277580B ,2008-10-01

[3]

等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

宫田浩二 ;

佐藤徹治 .

中国专利 :CN1761032A ,2006-04-19

[4]

等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

小口元树 ;

森崎昭生 ;

花田幸纪 .

中国专利 :CN101853763A ,2010-10-06

[5]

等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

平山昌树 .

中国专利 :CN103503580A ,2014-01-08

[6]

等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

桧森慎司 .

中国专利 :CN101990353A ,2011-03-23

[7]

等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

小野寺直见 ;

乡右近清彦 ;

佐藤润 .

中国专利 :CN101877304B ,2010-11-03

[8]

等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

山泽阳平 ;

奥西直彦 ;

三泽裕文 ;

添田秀史 .

中国专利 :CN101853766A ,2010-10-06

[9]

等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

平山昌树 .

中国专利 :CN104094677A ,2014-10-08

[10]

等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

平山昌树 .

中国专利 :CN104081883A ,2014-10-01

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