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一种半导体设备的器件清洗装置
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN201822146938.0
申请日
:
2018-12-20
公开(公告)号
:
CN209255385U
公开(公告)日
:
2019-08-16
发明(设计)人
:
范新亭
申请人
:
申请人地址
:
215300 江苏省苏州市昆山市玉山镇恒盛路505号
IPC主分类号
:
B08B312
IPC分类号
:
B08B1300
代理机构
:
苏州国诚专利代理有限公司 32293
代理人
:
王丽
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2019-08-16
授权
授权
2022-11-29
专利权的终止
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B08B 3/12 申请日:20181220 授权公告日:20190816 终止日期:20211220
共 50 条
[1]
半导体设备的器件清洗装置
[P].
李景伦
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
李景伦
.
中国专利
:CN201505647U
,2010-06-16
[2]
一种半导体清洗设备
[P].
徐贺
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
深圳市茂泰电子有限公司
深圳市茂泰电子有限公司
徐贺
;
张朋飞
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
深圳市茂泰电子有限公司
深圳市茂泰电子有限公司
张朋飞
;
王子会
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
深圳市茂泰电子有限公司
深圳市茂泰电子有限公司
王子会
.
中国专利
:CN221109203U
,2024-06-11
[3]
半导体清洗装置和半导体设备
[P].
杜明利
论文数:
0
引用数:
0
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0
杜明利
;
郑晓芬
论文数:
0
引用数:
0
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0
郑晓芬
;
雷康
论文数:
0
引用数:
0
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0
雷康
.
中国专利
:CN216064523U
,2022-03-18
[4]
一种半导体生产加工用清洗装置
[P].
刘伟阳
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
刘伟阳
.
中国专利
:CN213103568U
,2021-05-04
[5]
一种半导体设备的器件清洗装置
[P].
王迪杏
论文数:
0
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王迪杏
;
蒋伟
论文数:
0
引用数:
0
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蒋伟
;
王宁
论文数:
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王宁
;
张阳
论文数:
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张阳
;
秦文兵
论文数:
0
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秦文兵
;
王金裕
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王金裕
;
苗全
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苗全
;
盛路阳
论文数:
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盛路阳
;
王伟
论文数:
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0
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王伟
;
顾育琪
论文数:
0
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0
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0
顾育琪
.
中国专利
:CN214262977U
,2021-09-24
[6]
一种半导体设备的器件清洗装置
[P].
徐宏进
论文数:
0
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0
h-index:
0
徐宏进
.
中国专利
:CN210546647U
,2020-05-19
[7]
一种半导体设备的器件清洗装置
[P].
金松鹤
论文数:
0
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0
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0
金松鹤
.
中国专利
:CN213613007U
,2021-07-06
[8]
一种半导体设备的器件清洗装置
[P].
韩猛
论文数:
0
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0
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0
韩猛
;
马国乾
论文数:
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0
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0
马国乾
.
中国专利
:CN212069670U
,2020-12-04
[9]
一种半导体封装清洗装置
[P].
周皓
论文数:
0
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机构:
河南启昂半导体有限公司
河南启昂半导体有限公司
周皓
;
李孟泽
论文数:
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机构:
河南启昂半导体有限公司
河南启昂半导体有限公司
李孟泽
;
赵立群
论文数:
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机构:
河南启昂半导体有限公司
河南启昂半导体有限公司
赵立群
;
刘杰
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机构:
河南启昂半导体有限公司
河南启昂半导体有限公司
刘杰
;
韩婉琳
论文数:
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0
机构:
河南启昂半导体有限公司
河南启昂半导体有限公司
韩婉琳
.
中国专利
:CN223382170U
,2025-09-26
[10]
一种半导体晶元稳定清洗的超声波清洗装置
[P].
衷福永
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
昆山国音超声波工业设备有限公司
昆山国音超声波工业设备有限公司
衷福永
.
中国专利
:CN223027986U
,2025-06-27
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