用于图像传感器的沟槽隔离

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201811201788.7
申请日
2018-10-16
公开(公告)号
CN109686748B
公开(公告)日
2019-04-26
发明(设计)人
郑荣友 林赛·格朗 戴森·H·戴 文森特·瓦乃兹艾 郑魏
申请人
申请人地址
美国加利福尼亚州
IPC主分类号
H01L27146
IPC分类号
代理机构
北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287
代理人
刘媛媛
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
用于CMOS图像传感器的浅沟槽隔离(STI)结构 [P]. 
文成烈 ;
姜熙秀 ;
张祥 .
中国专利 :CN115347008A ,2022-11-15
[2]
具有混合深沟槽隔离的图像传感器 [P]. 
熊志伟 ;
毛杜立 ;
文森特·韦内齐亚 ;
陈刚 ;
戴森·H·戴 .
中国专利 :CN108022939B ,2018-05-11
[3]
具有切换式深沟槽隔离结构的图像传感器像素单元 [P]. 
胡信中 ;
杨荣生 ;
陈刚 ;
霍华德·E·罗兹 ;
真锅宗平 ;
戴森·幸志·戴 .
中国专利 :CN104377211B ,2015-02-25
[4]
用于CMOS图像传感器的深沟槽隔离(DTI)结构 [P]. 
臧辉 ;
陈刚 .
中国专利 :CN113013185A ,2021-06-22
[5]
用于CMOS图像传感器的深沟槽隔离结构及其方法 [P]. 
臧辉 .
美国专利 :CN118841421A ,2024-10-25
[6]
具有深沟槽隔离结构的图像传感器像素 [P]. 
陈刚 ;
张宜 ;
焉逢运 .
中国专利 :CN115692436A ,2023-02-03
[7]
具有深沟槽隔离结构的图像传感器像素 [P]. 
陈刚 ;
张宜 ;
焉逢运 .
中国专利 :CN115692436B ,2024-10-25
[8]
用于CMOS图像传感器的浅沟槽隔离(STI)结构 [P]. 
文成烈 .
中国专利 :CN113224089A ,2021-08-06
[9]
具有深沟槽隔离结构的图像传感器及其方法 [P]. 
王勤 ;
V·瓦乃兹艾 .
美国专利 :CN120456631A ,2025-08-08
[10]
采用深沟槽隔离的图像传感器 [P]. 
霍华德·E·罗德斯 .
中国专利 :CN1832187A ,2006-09-13