溅射靶和溅射靶的制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201980018192.X

申请日：

2019-03-12

公开(公告)号：

CN111836914A

公开(公告)日：

2020-10-27

发明(设计)人：

杉本圭次郎村田周平

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

C23C1434

IPC分类号：

代理机构：

北京品源专利代理有限公司 11332

代理人：

吕琳;朴秀玉

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-11-13	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/34 申请日:20190312
2020-10-27	公开	公开

共 50 条

[1]

溅射靶材、溅射靶、溅射靶用铝板及其制造方法 [P].

竹田博贵 ;

藤田昌宏 .

中国专利 :CN110709532B ,2020-01-17

[2]

溅射靶制造方法及溅射靶 [P].

斋藤淳 .

中国专利 :CN102959122A ,2013-03-06

[3]

溅射靶的制造方法及溅射靶 [P].

藤田昌宏 ;

西冈宏司 .

中国专利 :CN109952389A ,2019-06-28

[4]

溅射靶及溅射靶的制造方法 [P].

芦小丽 ;

新田纯一 ;

中村晃 ;

佐藤美穂 .

中国专利 :CN111051566A ,2020-04-21

[5]

溅射靶及溅射靶的制造方法 [P].

和田优 ;

斋藤胜仁 ;

川越裕 ;

武末健太郎 ;

高桥一寿 .

日本专利 :CN113508187B ,2024-02-27

[6]

溅射靶的制造方法及溅射靶 [P].

泷川干雄 .

中国专利 :CN108350565A ,2018-07-31

[7]

溅射靶及溅射靶的制造方法 [P].

和田优 ;

斋藤胜仁 ;

川越裕 ;

武末健太郎 ;

高桥一寿 .

中国专利 :CN113544308B ,2021-10-22

[8]

溅射靶以及溅射靶的制造方法 [P].

古谷祐树 .

中国专利 :CN113692457A ,2021-11-23

[9]

溅射靶及溅射靶的制造方法 [P].

武末健太郎 ;

和田优 ;

松本浩一 ;

川越裕 ;

西村元秀 .

中国专利 :CN114008237A ,2022-02-01

[10]

溅射靶的制造方法及溅射靶 [P].

泷川干雄 ;

寺泽俊之 .

中国专利 :CN108350566A ,2018-07-31

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