测定装置、测定方法及记录有测定程序的记录介质

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201911059835.3

申请日：

2019-11-01

公开(公告)号：

CN111238380B

公开(公告)日：

2020-06-05

发明(设计)人：

西田和史原仁节田和纪

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G01B1106

IPC分类号：

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

韩锋

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-06-05	公开	公开
2022-04-05	授权	授权
2020-06-30	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G01B 11/06 申请日:20191101

共 50 条

[1]

测定装置、测定方法、测定程序以及记录介质 [P].

山内隆典 ;

后藤广树 ;

宫城由香里 ;

小西良明 ;

西冈隼也 .

日本专利 :CN118525194A ,2024-08-20

[2]

测定装置、测定方法及记录有测定程序的计算机可读记录介质 [P].

出野彻 ;

滨口贵広 ;

汤本将彦 ;

山内隆伸 ;

松冈和 .

日本专利 :CN112512415B ,2024-06-21

[3]

虚拟测定装置、虚拟测定方法及记录介质 [P].

筒井拓郎 .

日本专利 :CN113169036B ,2024-08-06

[4]

测定装置、测定方法以及记录介质 [P].

中野梓 ;

富泽亮太 ;

中岛健 ;

岸部祥典 .

日本专利 :CN119496967A ,2025-02-21

[5]

测定装置、测定方法以及记录介质 [P].

小林宏企 ;

滝口真也 .

中国专利 :CN115372693A ,2022-11-22

[6]

测定装置、测定方法以及记录介质 [P].

奥田忠义 .

日本专利 :CN115244620B ,2025-04-08

[7]

光测定装置、方法、程序、记录介质 [P].

桥本昌一 ;

入泽昭好 .

中国专利 :CN104620094A ,2015-05-13

[8]

状态测定装置、状态测定方法及记录介质 [P].

河室佑贵 ;

盐入章弘 ;

中山直人 .

中国专利 :CN114062441A ,2022-02-18

[9]

测定方法、测定装置、计算机程序以及记录介质 [P].

日下博也 ;

大原正满 .

中国专利 :CN103959771B ,2014-07-30

[10]

电阻映射装置、电阻测定装置、电阻测定方法、程序以及记录介质 [P].

田中章 .

中国专利 :CN113495190A ,2021-10-12

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