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一种用于双台面激光直写曝光机的真空吸附控制系统
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN202020035807.X
申请日：
2020-01-08
公开(公告)号：
CN211318990U
公开(公告)日：
2020-08-21
发明(设计)人：
张浩为
卫国
魏云飞
申请人：
申请人地址：
230088 安徽省合肥市高新区创新大道2800号创新产业园二期F3楼11层
IPC主分类号：
G03F720
IPC分类号：
代理机构：
合肥天明专利事务所(普通合伙) 34115
代理人：
奚华保
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2020-08-21 | 授权 | 授权 |