离子源

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201310064976.0

申请日：

2013-03-01

公开(公告)号：

CN103298232B

公开(公告)日：

2013-09-11

发明(设计)人：

角谷晶子桥本清佐藤洁和长内昭宏吉行健来栖努

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H05H124

IPC分类号：

代理机构：

永新专利商标代理有限公司 72002

代理人：

徐冰冰;刘杰

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-04-12	授权	授权
2013-10-16	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101529124178 IPC(主分类):H05H 1/24 专利申请号:2013100649760 申请日:20130301
2013-09-11	公开	公开

共 50 条

[1]

角谷晶子 ;

桥本清 ;

佐藤洁和 ;

长内昭宏 ;

吉行健 ;

来栖努 ;

林和夫 .

中国专利 :CN105070624B ,2015-11-18

[2]

角谷晶子 ;

桥本清 ;

佐藤洁和 ;

长内昭宏 ;

吉行健 ;

来栖努 ;

林和夫 .

中国专利 :CN103313501A ,2013-09-18

[3]

柳鹏 ;

周段亮 ;

陈丕瑾 ;

胡昭复 ;

郭彩林 ;

杜秉初 ;

范守善 .

中国专利 :CN101894725A ,2010-11-24

[4]

离子源、质谱仪、离子源控制方法 [P].

长谷川英树 ;

杉山益之 ;

桥本雄一郎 .

中国专利 :CN115104173A ,2022-09-23

[5]

离子源、质谱仪、离子源控制方法 [P].

长谷川英树 ;

杉山益之 ;

桥本雄一郎 .

日本专利 :CN115104173B ,2025-05-16

[6]

等离子源 [P].

江部明宪 .

日本专利 :CN112702829B ,2025-08-15

[7]

等离子源 [P].

江部明宪 .

中国专利 :CN112702829A ,2021-04-23

[8]

离子源装置 [P].

日朝俊一 ;

谷口爱实 .

中国专利 :CN111133551A ,2020-05-08

[9]

离子源、离子源注入设备及离子分布调整方法 [P].

田香军 ;

陈艳 ;

王学勇 .

中国专利 :CN107093542A ,2017-08-25

[10]

激光离子源 [P].

角谷晶子 ;

林和夫 ;

长内昭宏 ;

佐藤洁和 ;

吉行健 ;

来栖努 .

中国专利 :CN103295861A ,2013-09-11

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