离子源、离子源注入设备及离子分布调整方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201710296102.6

申请日：

2017-04-28

公开(公告)号：

CN107093542A

公开(公告)日：

2017-08-25

发明(设计)人：

田香军陈艳王学勇

申请人：

申请人地址：

100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号

IPC主分类号：

H01J3708

IPC分类号：

H01J37317

代理机构：

北京银龙知识产权代理有限公司 11243

代理人：

许静;刘伟

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-08-25	公开	公开
2017-09-19	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101748783180 IPC(主分类):H01J 37/08 专利申请号:2017102961026 申请日:20170428
2020-04-03	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H01J 37/08 申请公布日:20170825

共 50 条

[1]

离子源电弧室、离子源及离子注入设备 [P].

林纪光 .

中国专利 :CN223527118U ,2025-11-07

[2]

离子源灯丝结构、离子源装置及离子注入设备 [P].

杜建民 ;

邵卫 ;

邵浩 ;

宋文博 .

中国专利 :CN217933703U ,2022-11-29

[3]

井内裕 .

中国专利 :CN102592930A ,2012-07-18

[4]

角谷晶子 ;

桥本清 ;

佐藤洁和 ;

长内昭宏 ;

吉行健 ;

来栖努 ;

林和夫 .

中国专利 :CN105070624B ,2015-11-18

[5]

角谷晶子 ;

桥本清 ;

佐藤洁和 ;

长内昭宏 ;

吉行健 ;

来栖努 .

中国专利 :CN103298232B ,2013-09-11

[6]

角谷晶子 ;

桥本清 ;

佐藤洁和 ;

长内昭宏 ;

吉行健 ;

来栖努 ;

林和夫 .

中国专利 :CN103313501A ,2013-09-18

[7]

离子光学装置、离子源及利用离子源产生目标离子的方法 [P].

龙涛 ;

包泽民 ;

曾小辉 ;

王培智 ;

张玉海 ;

刘敦一 .

中国专利 :CN103560070A ,2014-02-05

[8]

阴极安装结构、离子源及离子注入设备 [P].

曾健纶 .

中国专利 :CN223193751U ,2025-08-05

[9]

一种电弧离子源及电弧离子源镀膜方法 [P].

蔺增 ;

乔宏 ;

王光文 ;

李汪星 .

中国专利 :CN109680250B ,2019-04-26

[10]

离子源、离子注入设备、半导体器件制造方法 [P].

须黑恭一 .

中国专利 :CN1294614C ,2004-05-19

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