离子源电弧室、离子源及离子注入设备

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202422577667.X

申请日：

2024-10-24

公开(公告)号：

CN223527118U

公开(公告)日：

2025-11-07

发明(设计)人：

林纪光

申请人：

重庆芯联微电子有限公司

申请人地址：

401332 重庆市沙坪坝区高新区西永街道西永大道28-2号SOHO楼601-A153

IPC主分类号：

H01J37/08

IPC分类号：

H01J37/317

代理机构：

上海思捷知识产权代理有限公司 31295

代理人：

张子飞

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-11-07	授权	授权

共 50 条

[1]

离子源及离子注入装置 [P].

邸太平 ;

洪纪伦 ;

倪明明 ;

吴宗祐 ;

林宗贤 .

中国专利 :CN208753260U ,2019-04-16

[2]

离子注入系统及离子源 [P].

T·N·霍尔斯基 ;

B·C·科恩 ;

W·A·克鲁尔 ;

G·P·小萨科 .

中国专利 :CN100385605C ,2004-02-25

[3]

离子源灯丝结构、离子源装置及离子注入设备 [P].

杜建民 ;

邵卫 ;

邵浩 ;

宋文博 .

中国专利 :CN217933703U ,2022-11-29

[4]

离子源及采用该离子源的离子注入机 [P].

单易飞 .

中国专利 :CN203983227U ,2014-12-03

[5]

离子注入机的离子源 [P].

简志宏 ;

王振辉 .

中国专利 :CN201478255U ,2010-05-19

[6]

离子源、离子源注入设备及离子分布调整方法 [P].

田香军 ;

陈艳 ;

王学勇 .

中国专利 :CN107093542A ,2017-08-25

[7]

离子源及离子注入机 [P].

陈中林 ;

刘群超 ;

张兴林 ;

孙彦刚 .

中国专利 :CN203631482U ,2014-06-04

[8]

阴极安装结构、离子源及离子注入设备 [P].

曾健纶 .

中国专利 :CN223193751U ,2025-08-05

[9]

离子源终止器及离子注入装置 [P].

高波 ;

单易飞 .

中国专利 :CN206116344U ,2017-04-19

[10]

离子源室及设备 [P].

蒋明亮 .

中国专利 :CN210668265U ,2020-06-02

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