光刻掩模版以及掩模版图案成型方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202110300142.X

申请日：

2021-03-22

公开(公告)号：

CN113156760A

公开(公告)日：

2021-07-23

发明(设计)人：

孟祥鹏孙延涛陈庆煌刘志成

申请人：

申请人地址：

250000 山东省济南市高新区机场路7617号411-2-9室

IPC主分类号：

G03F176

IPC分类号：

代理机构：

北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463

代理人：

董艳芳

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-08-10	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 1/76 申请日:20210322
2021-07-23	公开	公开

共 50 条

[1]

光刻掩模版 [P].

官锡俊 .

中国专利 :CN108535953B ,2018-09-14

[2]

掩模版版图的修正方法、掩模版、超表面结构 [P].

孙磊 ;

何健民 ;

史坦 ;

王宇辉 .

中国专利 :CN120029002A ,2025-05-23

[3]

掩模版版图的修正方法、掩模版、超表面结构 [P].

何健民 ;

孙磊 ;

史坦 ;

王宇辉 .

中国专利 :CN120029001A ,2025-05-23

[4]

崔丹丹 ;

裘立强 ;

王毅 .

中国专利 :CN216450605U ,2022-05-06

[5]

相位移掩模版、掩模版修补方法及设备 [P].

张哲玮 ;

高翌 ;

朱佳楠 .

中国专利 :CN113467180A ,2021-10-01

[6]

相位移掩模版、掩模版修补方法及设备 [P].

张哲玮 ;

高翌 ;

朱佳楠 .

中国专利 :CN113467180B ,2024-01-26

[7]

掩模版的形成方法及掩模版 [P].

姚军 ;

曹清晨 ;

刘峻 ;

胡小龙 ;

高峰 .

中国专利 :CN109752930A ,2019-05-14

[8]

掩模版结构和掩模版精度监控方法 [P].

杨坤 ;

居碧玉 ;

李亚洲 ;

刘伟林 ;

许文霞 ;

周国庆 ;

林宝 .

中国专利 :CN117666277A ,2024-03-08

[9]

一种光刻掩模版 [P].

严世传 .

中国专利 :CN222420802U ,2025-01-28

[10]

掩模版及光刻工艺 [P].

胡翔 ;

邱杰振 ;

颜天才 .

中国专利 :CN118963054A ,2024-11-15

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