掩模版结构和掩模版精度监控方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202311608281.4

申请日：

2023-11-27

公开(公告)号：

CN117666277A

公开(公告)日：

2024-03-08

发明(设计)人：

杨坤居碧玉李亚洲刘伟林许文霞周国庆林宝

申请人：

华虹半导体（无锡）有限公司

申请人地址：

214028 江苏省无锡市新吴区新洲路30号

IPC主分类号：

G03F1/38

IPC分类号：

G03F1/44 G03F1/84

代理机构：

上海浦一知识产权代理有限公司 31211

代理人：

赵薇

法律状态：

公开

国省代码：

江苏省无锡市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-03-08	公开	公开
2024-03-26	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 1/38申请日:20231127

共 50 条

[1]

掩模版的形成方法及掩模版 [P].

姚军 ;

曹清晨 ;

刘峻 ;

胡小龙 ;

高峰 .

中国专利 :CN109752930A ,2019-05-14

[2]

崔丹丹 ;

裘立强 ;

王毅 .

中国专利 :CN216450605U ,2022-05-06

[3]

掩模版清洁装置 [P].

张祥平 ;

李天慧 ;

黄晓橹 ;

龙海凤 .

中国专利 :CN208673040U ,2019-03-29

[4]

掩模版及其制备方法 [P].

罗先刚 ;

赵博文 ;

高平 ;

张涛 ;

尹邦超 ;

徐建东 ;

程官于行 .

中国专利 :CN120255265A ,2025-07-04

[5]

灰阶掩模版结构 [P].

王辉 .

中国专利 :CN113885294A ,2022-01-04

[6]

灰阶掩模版结构 [P].

王辉 .

中国专利 :CN113885294B ,2024-06-18

[7]

光刻掩模版 [P].

官锡俊 .

中国专利 :CN108535953B ,2018-09-14

[8]

相位移掩模版、掩模版修补方法及设备 [P].

张哲玮 ;

高翌 ;

朱佳楠 .

中国专利 :CN113467180A ,2021-10-01

[9]

光刻掩模版以及掩模版图案成型方法 [P].

孟祥鹏 ;

孙延涛 ;

陈庆煌 ;

刘志成 .

中国专利 :CN113156760A ,2021-07-23

[10]

相位移掩模版、掩模版修补方法及设备 [P].

张哲玮 ;

高翌 ;

朱佳楠 .

中国专利 :CN113467180B ,2024-01-26

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